三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：
3NF3＋5H2O＝2NO＋HNO3＋9HF。下列有关说法正确的是
| A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂 |
| B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2∶1 |
| C．若生成0.2 mol HNO3，则转移0.2 mol电子 |
| D．NF3 气体应密封干燥保存 |
相关试题
某溶液中含Fe3+、Cl—、Na+、SO42—，其离子个数比为Fe3+∶Cl—∶Na+∶SO42—=1∶2∶x∶2，则x的值是
| A．1 | B．2 | C．3 | D．4 |
已知：(1)H2S+I2=2H++2I—+S¯；(2)H2SO3+2H2S=3S¯+3H2O；(3)2I—+Br2=2Br—+I2；(4)H2SO3+I2+H2O=H2SO4+2HI 。则Br—、I—、H2S和H2SO3还原性由强到弱的顺序是
| A．H2S>H2SO3>I—>Br— | B．Br—>I—>H2SO3>H2S |
| C．H2SO3>H2S>Br—>I— | D．I—>Br—>H2S>H2SO3 |
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