三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3 NF3＋5 H2O="==2" NO＋HNO3＋9 HF，下列有关该反应的说法正确的是
| A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂 |
| B．还原剂和氧化剂的物质的量之比是1∶2 |
| C．若生成0．2 mol HNO3，则转移0．2 mol电子 |
| D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体 |
粤ICP备20024846号
粤公网安备 44130202000953号
粤公网安备 44130202000953号
Copyright ©2020-2024 优题课 youtike.com 版权所有
Powered by：Youtike Platform 6.6.3
声明：本网站部分内容由互联网用户自发贡献自行上传，本网站不拥有所有权，也不承担相关法律责任。
如果您发现有涉嫌版权的内容，欢迎发送邮件至：service@youtike.com 或 联系QQ：267757 进行举报，一经查实，本站将立刻删除涉嫌侵权内容。
如果您发现有涉嫌版权的内容，欢迎发送邮件至：service@youtike.com 或 联系QQ：267757 进行举报，一经查实，本站将立刻删除涉嫌侵权内容。