三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮

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三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3 NF₃＋5 H₂O="==2" NO＋HNO₃＋9 HF，下列有关该反应的说法正确的是

A．NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂

B．还原剂和氧化剂的物质的量之比是1∶2

C．若生成0．2 mol HNO₃，则转移0．2 mol电子

D．NF₃在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

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下列各组物质相互混合后，不会发生离子反应的是（）

A．Na₂SO₄溶液和MgCl₂溶液	B．Na₂CO₃溶液和稀硫酸
C．NaOH溶液和Fe₂(SO₄)₃溶液	D．Ca(OH)₂和盐酸

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