(7分)有一瓶无色澄清的溶液，其中可能含NH4+、K+、Na+、Mg2+、H+、Cu2+、CO32-、I-中的一种或几种，取该溶液进行如下实验：
①用PH试纸检验，表明溶液呈强酸性
②取部分溶液，加入少量的CCl4及数滴新制的氯水，振荡后CCl4层显紫红色
③另取部分溶液，逐滴加入稀NaOH溶液，使溶液从酸性逐渐转变为碱性，在滴加过程中及滴加完毕后，溶液中均无沉淀生成
④将③得到的碱性溶液加热，有气体放出，该气体能使湿润的红色石蕊试纸变蓝。
根据上述实验事实确定并回答：
（1）在溶液中，肯定存在的有___________，肯定不存在的离子有__________________。
（2）写出实验④中的离子反应方程式 ，
（3）不能确定是否存在的离子有__________________________。请设计简单实验方案证明它(们)是否存在(写出实验方法、现象、结论)_____________________________ ___________
如下图所示的装置，C、D、E、F都是惰性电极。将电源接通后，向乙中滴入酚酞试液．在F极附近显红色。
试回答以下问题：
(1)电极A的名称是 。
(2)甲装置中D电极的电极反应式： ______________________________ 。
(3) 在25℃时若用惰性电极电解饱和NaCl溶液一段时间，当阳极产生5.6L（标准状况下）一种气体，电解后溶液体积为50L时，求所得溶液在25℃时的氢氧化钠物质的量浓度=________ 。
(4)欲用丙装置给铜镀银，G应该是 ____ (填“银”或“铜”)， 电镀液的主要成分是(填化学式) 。
实验室里需要纯净的氯化钠溶液，但现在只有混有硫酸钠、碳酸氢铵的氯化钠固体。某学生设计了如下方案。请回答下列问题。
（1）操作①可选择__________仪器。
（2）试剂1为__________（填化学式）
（3）加入试剂2的目的________________，此时发生反应的离子方程式：______________。
（4）加入盐酸时，所发生反应的离子方程式：_________________________________。
（Ⅰ）气体制备时须先检查装置的气密性，下列各图所示装置，肯定不符合气密性检查要求的是 。
（Ⅱ）下面是中学化学实验中常见的几种仪器：
a．量筒 b．容量瓶 c．分液漏斗 d．托盘天平 e．温度计
（1）其中标示出仪器使用温度的是 （填编号）。
（2）称取10.5g固体样品（1g以下使用游码）时，将样品放在了天平的右盘，则所称样品的实际质量为 g。
（3）使用前要检查仪器是否漏液的是 （填编号）。
（Ⅲ）实验室需要95 mL 1.0 mol·L－1稀硫酸，现用98%的
浓硫酸(其密度为1.84 g/mL)来进行配制。若实验仪器有:
A．100
mL量筒 B．托盘天平 C．玻璃棒 D．250 mL容量瓶
E．10 mL量筒 F．胶头滴管 G．50 mL烧杯 H．100 mL容量瓶
（1）需量取浓硫酸的体积为 mL。
（2）实验时选用的仪器有(填序号)
（3）配制过程中，下列情况会使配制结果偏高的是(填序号)
A．将稀释的硫酸液转移至容量瓶后，未洗涤烧杯和玻璃棒。
B．将烧杯内的稀硫酸向容量瓶中转移时，因操作不当使部分稀硫酸溅出瓶外。
C．未冷却至室温就定容。
D．用胶头滴管加水时，俯视观察溶液凹液面与容量瓶刻度相切。
E．容量瓶使用时未干燥
F．定容后经振荡、摇匀、静置，发现液面低于刻度线，再加蒸馏水补至刻度线
、现用18.4 mol /L的
浓H2SO4来配制500 mL 0.2
mol /L的稀H2SO4。已有仪器：①玻璃棒②量筒③烧杯④胶头滴管
请回答下列问题：
(1)上述仪器中，在配制稀H2SO4时还缺少的仪器是______________________。
(2)经计算，需浓H2SO4的体积为___________.
(3)将所配制的稀H2SO4进行测定，发现浓度大于0.2 mol/L。请你分析配制过程中可能引起浓度偏高的原因(答出两点)_____________________、________________________。[
（4）配制时，一般可分为以下几个步骤：①称量②计算③溶解④摇匀⑤转移⑥洗涤⑦定容⑧冷却，其正确的操作顺序是 。
单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硫、磷等杂质），粗硅与氯气反应生
成四氯化硅（反应温度450-500°C），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置
示意图。
相关信息如下： a.四氯化硅遇水极易水解；
b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；
c.有关物质的物理常数见下表：
| 物质 |
SiCl4 |
BCl3 |
AlCl3 |
FeCl3 |
PCl5 |
| 沸点/℃ |
57.7 |
12.8 |
—— |
315 |
—— |
| 熔点/℃ |
-70.0 |
-107.2 |
—— |
—— |
—— |
| 升华温度/℃ |
—— |
—— |
180 |
300 |
162 |
请回答下列问题：
（1）写出四氯化硅水解方程式 。
（2）装置A中g管的作用是 ；装置C中的试剂是 ；装置E中的h瓶需要冷却理由是 。
（3）装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏（类似多次蒸馏）得到高纯度四氯化硅，精馏后的残留物中，为了分析残留物中铁元素的含量，先将残留物预处理，使铁元素还原成Fe2+，再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定，反应的离子方程式是：
①滴定前是否要滴加指示剂？ （填“是”或“否”），请说明理由 。
②某同学称取5.000g残留物，预处理后在容量瓶中配制成100ml溶液，移取25.00ml试样溶液，用1.000×10-2mol· L-1KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时，消耗标准溶液20.00ml,则残留物中铁元素的质量分数是 。
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