（1）石墨是层状结构，如下图所示。每一层内的碳原子间通过sp2杂化形成 （填代号字母，后同）；层与层间存在 ；石墨的每一个碳原子经过sp2杂化后，还剩下1个未成对电子，在电场作用下能够作定向移动，因而石墨还具有导电性，所以还存在 。
a：σ键
b：π键
c：氢键
d：配位键
e：范德华力
f：金属键
g：离子键
（2）请选“＞”、“＜”或“＝”填与下列空格中：
①熔点：Na Mg； ②硬度：金刚石 晶体硅； ③晶格能：NaI NaBr
（甲醇是重要的化学工业基础原料和清洁液体燃料，它广泛用于有机合成、医药、农药、涂料、染料、汽车和国防等工业中。工业上一般在恒容密闭容器中采用下列反应合成甲醇：
CO(g)
2H2(g)
CH3OH(g)Q
下表所列数据是反应在不同温度下的化学平衡常数（K）。
| 温度 |
250℃ |
300℃ |
350℃ |
| K |
2.041 |
0.270 |
0.012 |
（1）判断反应达到平衡状态的依据是（ ）
A．混合气体的密度不变
B．混合气体的平均相对分子质量不变
C．生成CH3OH的速率与消耗CO的速率相等
D．CH3OH、CO、H2的浓度都不再发生变化
（2）由表中数据判断Q 0 （填“＞”、“
”或“＜”），要提高CO转化率，可采取的措施
是（ ）
A．加入催化剂 B．充入CO C．充入H2 D．升温
（3）某温度下，将2 mol CO和6 mol H2充入2 L的密闭容器中，充分反应10min后，达到平衡时测得c
mol／L，则以CH3OH表示的反应速率v
mol /(L·min)，
CO的转化率为 。
（4）原料CO和H2可以由C和H2O反应制取，涉及的反应方程式如下：
C(s)CO2(g) 
2CO(g) 平衡常数K1
C(s)H2O(g) CO(g)H2(g) 平衡常数K2
CO(g)H2O(g) H2(g)CO2(g) 平衡常数K3
则K1、K2、K3之间的关系是： 。
为了防止枪支生锈，常将枪支的钢铁零件放在NaNO2和NaOH的混合液中进行化学处理使钢铁零件表面生成Fe3O4的致密的保护层——“发蓝”。其过程可用下列化学方程式表示：
①3Fe
NaNO25NaOH → 3Na2FeO2H2ONH3↑
② Na2FeO2 NaNO2 H2O → Na2Fe2O4 NH3↑ NaOH
③Na2FeO2Na2Fe2O42H2O
Fe3O44NaOH
（1）配平化学方程式②。
（2）上述反应①中还原剂为 ，被还原的是 。若有1mol Na2FeO2生成，则反应中有 mol电子转移。
（3）关于形成“发蓝”的过程，下列说法正确的是…………………………………………（ ）
| A．该生产过程不会产生污染 | B．反应③生成的四氧化三铁具有抗腐蚀作用 |
| C．反应①②③均是氧化还原反应 | D．反应①②中的氧化剂均为NaNO2 |
（4）当NaOH溶液浓度过大，“发蓝”的厚度会变小，其原因是： 。
已知由有机物B、苯甲醛、乙酸、乙醇合成目标产物
，其合成路线如下图所示（其中Et表示乙基）。
完成下列填空：
（1）写出反应类型：反应④ 、反应⑤
（2）写出物质A的分子式________ ，B的名称是 。
（3）写出下列反应的化学方程式：
②____________________________________________________________。
③___________________________________________________________。
（4）C9H10O是苯甲醛的同系物，其中苯环上含有两个取代基的同分异构体共有____种，写出
其中一种的结构简式_____________________。
（5）如果只用一种试剂通过化学反应（必要时可以加热）鉴别合成原料中的乙酸、乙醇、苯甲醛。这种试剂是______________，其中苯甲醛检出的现象是_______________________。
（6）目标产物（结构如图）是否有含三个苯环的同分异构体____（填“有”或“无”），理由是__________________。
有一种线性高分子，结构如下图所示。
完成下列填空：
（1）该高分子由______种单体（聚合成高分子的简单小分子）聚合而成。这些单体含有的官
能团名称是___________________。
（2）写出上述单体中式量最小和式量最大的分子间发生缩聚反应的化学方程式
__________________________________________________。
（3）上述单体中式量最小的分子在一定条件下完全消去后所得物质的结构简式为
。该物质加聚生成的高分子（填“能”或“不能”）________与溴的CCl4溶液
发生加成反应。该物质三分子聚合成环，所得物质的名称是_______。
（4）上述单体中其中互为同系物的是（写出所有可能，用结构简式表述）
________________________、________________________________________。
工业上高纯硅可以通过下列反应制取：SiCl4(g)+ 2H2(g) 
Si (s)+ 4HCl(g) －236kJ
完成下列填空：
（1）在一定温度下进行上述反应，若反应容器的容积为2L，H2的平均反应速率为0.1mol/(L·min)，3min后达到平衡，此时获得固体的质量 g。
（2）该反应的平衡常数表达式K＝ 。可以通过_______使K增大。
（3）一定条件下，在密闭恒容容器中，能表示上述反应一定达到化学平衡状态的是 。
a．2v逆(SiCl4)＝v正(H2)
b．断开4molSi－Cl键的同时，生成4molH－Cl键
c．混合气体密度保持不变
d．c(SiCl4)：c(H2)：c(HCl)＝1:2:4
（4）若反应过程如图所示，纵坐标表示氢气、氯化氢的物质的量（mol），横坐标表示时间（min），若整个反应过程没有加入或提取各物质，则第1.5分钟改变的条件是______，第3分钟改变的条件是__________，各平衡态中氢气转化率最小的时间段是_____________ 。
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