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  • 更新 2022-09-03
  • 科目 化学
  • 题型 实验题
  • 难度 困难
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硅单质及其化合物应用范围很广。制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

(1)第①步制备粗硅的化学方程式为________________________________。
第④步由纯SiHCl3制备高纯硅的化学方程式为___________________________________。
(2)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如图所示(热源及夹持装置均已略去):

①装置B中的试剂是________,装置C中的烧瓶需要加热,其目的是________。
②反应一段时间后,装置D中观察到的现象是_______,装置D不能采用普通玻璃管的原因是________。
③SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式:________;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是________;整个制备过程必须严格控制____________。
(3)下列有关硅材料的说法正确的是________(填字母)。

A.碳化硅硬度大,可用于生产砂纸、砂轮等
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维
D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高

E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

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硅单质及其化合物应用范围很广。制备硅半导体材料必须先得到高纯