三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O===2NO+HNO3+9HF。下列有关说法正确的是
下列溶液中,Na+ 数目最多的是( )
下列有关气体的叙述中,错误的是( )
质量相等的下列物质中,含分子数最多的是 ( )
能正确表示下列化学反应的离子方程式的是 ( )
下列反应不属于氧化还原反应的是( )