三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮

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三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF₃＋5H₂O===2NO＋HNO₃＋9HF。下列有关说法正确的是

A．NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂

B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2∶1

C．若生成0.2 mol HNO₃，则转移0.2 mol电子

D．氧化产物和还原产物的物质的量之比为1∶2

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下列反应中必须加入还原剂才能进行的是（）

A．Mn²⁺→MnO₄^-

B．Cl₂→Cl^-

C．H₂→H₂O

D．Zn→Zn²⁺

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下列溶液中，能大量共存的离子组是（）

A．Ba²⁺、Cu²⁺、C1^﹣、NO₃^﹣	B．Ca²⁺、Al³⁺、Br^﹣、ClO^﹣
C．NH₄⁺、K⁺、HSO₃^﹣、CO₃²^﹣	D．Na⁺、K⁺、MnO₄^﹣、I^﹣

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含有N元素的化合物，下列有关判断错误的是（）

A．HNO₃具有氧化性	B．NH₃既具有氧化性又具有还原性
C．N₂只具有还原性	D．NO₂既具有氧化性又具有还原性

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下列物质属于电解质的是（）

A．氯化钠

B．铜

C．蔗糖

D．乙醇

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下列关于仪器使用的说法正确的是（）

A．配制一定物质的量浓度的溶液时应先用该液体润洗容量瓶

B．振荡分液漏斗时应关闭其玻璃塞和活塞

C．蒸发结晶时蒸发皿应放在泥三角上

D．锥形瓶用作反应容器时一定不能加热

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