三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3＋5H2O===2NO＋HNO3＋9HF。下列有关该反应的说法正确的是
| A．NF3分子中所有原子共平面 |
| B．NF3在反应中既做氧化剂又做还原剂 |
| C．生成0.2mol HNO3时转移0.2mol电子 |
| D．氧化产物与还原产物的物质的量之比为2∶1 |
相关试题
下列反应中，不属于四种基本反应类型，但属于氧化还原反应的是
| A．2Na + 2H2O ="=2NaOH" + H2↑ | B．CH4 + 2O2 CO2+ 2H2O |
C．2KClO3 2KCl + 3O2↑ |
D．CaCO3 + 2HCl ="=" CaCl2 + H2O + CO2↑ |
下列离子方程式改写成化学方程式正确的是
A．Cu2＋＋2OH－＝Cu(OH)2¯CuCO3＋2NaOH Cu(OH)2¯＋Na2CO3 |
B． ＋2H＋＝CO2＋H2O BaCO3＋2HClBaCl2＋CO2＋H2O |
| C．Ba2＋＋SO42-＝BaSO4¯Ba(OH)2＋MgSO4BaSO4¯＋Mg（OH）2¯ |
| D．H＋＋OH－＝H2O 2KOH＋H2SO4K2SO4＋2H2O |
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