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高中化学
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试题详细
更新
2022-09-03
科目
化学
题型
选择题
难度
中等
浏览
876
挑错有奖
三氟化氮(NF
3
)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF
3
+5H
2
O===2NO+HNO
3
+9HF。下列有关该反应的说法正确的是
A.NF
3
分子中所有原子共平面
B.NF
3
在反应中既做氧化剂又做还原剂
C.生成0.2mol HNO
3
时转移0.2mol电子
D.氧化产物与还原产物的物质的量之比为2∶1
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三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮