三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮

三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF₃＋5H₂O===2NO＋HNO₃＋9HF。下列有关该反应的说法正确的是

A．NF₃分子中所有原子共平面

B．NF₃在反应中既做氧化剂又做还原剂

C．生成0.2mol HNO₃时转移0.2mol电子

D．氧化产物与还原产物的物质的量之比为2∶1

登录免费查看答案和解析

三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮

粤ICP备20024846号

声明：本网站部分内容由互联网用户自发贡献自行上传，本网站不拥有所有权，也不承担相关法律责任。
如果您发现有涉嫌版权的内容，欢迎发送邮件至：service@youtike.com 或联系QQ：267757 进行举报，一经查实，本站将立刻删除涉嫌侵权内容。