三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3＋5H2O===2NO＋HNO3＋9HF。下列有关该反应的说法正确的是
| A．NF3分子中所有原子共平面 |
| B．NF3在反应中既做氧化剂又做还原剂 |
| C．生成0.2mol HNO3时转移0.2mol电子 |
| D．氧化产物与还原产物的物质的量之比为2∶1 |
相关试题
下列化学方程式中，不能用H＋＋OH－＝H2O表示的是
| A．2NaOH＋H2SO4＝Na2SO4＋2H2O |
| B．Ba(OH)2＋2HCl＝BaCl2＋2H2O |
| C．Cu(OH)2＋2HNO3＝Cu(NO3)2＋2H2O |
| D．KOH＋HCl＝KCl＋H2O |
在溶液中能大量共存
，加入OHˉ有沉淀析出，加入H+能放出气体的是
| A．Na+、HCO3－、Ca2+、Cl－ | B．Ba2+、K+、OH－、NO3－ |
| C．H+、Fe3+、NH4+、SO42－ | D．Mg2+、Na+、Cl－、CO32－ |
下列分离提纯的方法正确的是
| A．除去CO2中的HCl气体，通过盛足量饱和NaOH溶液的洗气瓶 |
| B．分离KNO3晶体中的少量NaCl，溶解后蒸发结晶、过滤 |
| C．用加热法分离氯化钠和碘的固体混合物 |
| D．除氢氧化钠溶液中的硫酸钠，加入适量氯化钡溶液后过滤 |
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