工业上利用硅的氧化物制取硅单质，主要反应为：SiO2 + 2C 
Si + 2CO↑。该反应中，还原剂是 （填化学式），被还原的物质是 （填化学式）；若反应中消耗了2 mol C，则生成 _____mol Si，转移电子的物质的量为 mol。
相关试题
（6*1分）下面是用98%的浓H2SO4（ρ="1.84" g/cm3）配制成0.5 mol/L的稀H2SO4 500 mL的操作，请按要求填空：
（1）浓硫酸的物质的量浓度为。
（2）所需浓H2SO4的体积为。
（3）将量取的浓H2SO4沿烧杯内壁慢慢注入盛有约100 mL水的里，并不断搅拌。
（4）冷却后，将上述溶液转移到中，用蒸馏水洗涤烧杯2～3次，并将洗涤液注入容量瓶中。
（5）加水至距刻度处，改用加水，使溶液的凹液面正好跟刻度相平，摇匀。
（4*2分）写出下列反应的离子方程式：
（1）氢氧化钠与硫酸反应；
（2）实验室制取CO2气体；
（3）少量CO2气体通入澄清石灰水；
（4）硫酸铜溶液与氢氧化钠反应。
（6*1分）某溶液中含有SO42-、CO32-、Cl-三种阴离子。如果每次只检验一种离子，要↑
（1）先检验CO32-，加入试剂（或溶液），反应的离子方程式为；
（2）然后检验SO42，加入试剂（或溶液），反应的离子方程式为；
（3）最后检验Cl-，加入试剂（或溶液），反应的离子方程式为。
（4*2分）（1）写出 CO与氧化铜反应的化学方程式并标明电子转移的方向和数目。
（2）2.8gCO的物质的量为mol,含有个原子，
完全与氧化铜反应时失去电子mol。
粤公网安备 44130202000953号