光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：

已知：A是苯甲醛
Ⅰ．（R，R′为烃基或氢）
Ⅱ．（R，R′为烃基）
（1）C分子中所含官能团名称为                。
（2）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3:2:1，E能发生水解反应，则E的结构简式为                  。
（3）由C到D的反应类型为             。
（4）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为                         。
（5）C的一种同分异构体满足下列条件：
①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl₃溶液发生显色反应；
②苯环上的一氯取代产物只有两种。
写出该同分异构体的结构简式：                              。
（6）根据已有知识并结合相关信息，写出以CH₃CHO为原料制备CH₃COCOCOOH的合成路线流程图（无机试剂任用）。合成路线流程图示例如下：