光刻胶是一种应用广泛的光敏材料,其合成路线如下(部分试剂和产物略去):
已知:A是苯甲醛
Ⅰ.(R,R′为烃基或氢)
Ⅱ.(R,R′为烃基)
(1)C分子中所含官能团名称为 。
(2)乙炔和羧酸X加成生成E,E的核磁共振氢谱为三组峰,且峰面积比为3:2:1,E能发生水解反应,则E的结构简式为 。
(3)由C到D的反应类型为 。
(4)D和G反应生成光刻胶的化学方程式为 。
(5)C的一种同分异构体满足下列条件:
①能发生银镜反应,其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应;
②苯环上的一氯取代产物只有两种。
写出该同分异构体的结构简式: 。
(6)根据已有知识并结合相关信息,写出以CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任用)。合成路线流程图示例如下: