下图是一块用FeCl3溶液与Cu反应制作的印刷电路板，其制作原理可用下式表示：
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（1）上式中X物质的化学式为 。
（2）在上述反应中，氧化剂为 ，氧化产物为 ，
将两者的氧化性比较， 的氧化性更强。
（3）用双线桥法表示该反应的电子转移情况 。
（4）该反应的离子方程式为 。
H2O2是重要的化工原料。
（1）H2O2中O元素的化合价为______。
（2）①向酸性KMnO4溶液中滴加H2O2溶液，溶液褪色，体现了H2O2的还原性，其中氧化过程是：H2O2→______（填化学式）。
②向H2SO4酸化的FeSO4溶液中滴加H2O2溶液，溶液变成黄色，体现了H2O2的氧化性，反应的离子方程式是_________。
（3）H2O2不稳定易分解。实验室需要448 mL O2（标准状况），则理论上最少需要用30%的H2O2溶液（密度为1.10 g/mL）_______mL。（计算结果保留一位小数）
实验室常用不含Fe3+的FeSO4溶液与NaOH溶液反应制备Fe(OH)2。
（1）用FeSO4晶体配制上述FeSO4溶液时还需加入 来防止Fe2+被氧化，配制时所需的蒸馏水常采用 的方法除去溶解的O2，检验所配FeSO4溶液中不含有Fe3+的最佳试剂是 。
（2）Fe(OH)2露置在空气中容易被氧化，试写出该反应的化学方程式并用单线桥法表示该反应的电子转移情况 ；为防止Fe(OH)2氧化，实验时可在FeSO4溶液中加入适量的 （选填“煤油”或“四氯化碳”）来隔绝空气。
按要求回答下列问题：
（1）O4是意大利的一位科学家合成的一种新型氧分子，一个分子由四个氧原子构成，在相同条件下，等质量的O4和O3氧原子数之比为 ；两种气体的体积之比为 。
（2）已知下列几种物质①氨气②液氯③硫酸④盐酸⑤酒精⑥烧碱⑦氢氧化铁胶体，其中属于电解质的
是 （填写序号）。
（3）硅是太阳能电池和电脑芯片不可缺少的材料。生产高纯硅的流程示意图如下：
物质A的化学式为 ；制备粗硅的反应为置换反应，且生成的气体具有还原性，该反应的化学方程式为 (提示：石英砂的主要成分是SiO2) 。
实验室需要配制240mL 1.0 mol·L－1的NaOH溶液。试回答以下有关问题：
（1）该实验中至少需要称取氢氧化钠固体的质量为 。
（2）该实验所需要的玻璃仪器，除烧杯、玻璃棒、量筒、胶头滴管外，还需要 。
（3）烧碱溶解后未冷却至室温即转移定容，配得的溶液浓度将 （填“偏大”、“偏小”或“无影响”，后同）；定容时俯视刻度线，配得的溶液浓度将 。
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