三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮

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三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：
3NF₃＋5H₂O＝2NO＋HNO₃＋9HF。下列有关说法正确的是（）

A．NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂

B．若生成0.2 mol HNO₃，则转移0.2 mol电子

C．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2∶1

D．NF₃在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

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B．71

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