三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体。它

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三氟化氮(NF₃)是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体。它无色、无臭，在潮湿的空气中能发生下列反应：3NF₃+ 5H₂O = 2NO+HNO₃+9HF，下列有关说法正确的是

A．反应中NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂

B．反应中被氧化与被还原的原子物质的量之比为2:1

C．若反应中生成0.2 mol HNO₃，则反应共转移0.2 mol e^-

D．NF₃在潮湿的空气中泄漏会产生白雾、红棕色气体等现象

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设N_A代表阿伏加德罗常数，下列说法中正确的是（）

A．100mL1mol/L的碳酸钠溶液中含有Na⁺为2N_A

B．常温、常压下，0.5mol臭氧中含有氧原子为1.5N_A

C．标准状况下，1mol NO₂气体与水反应生成NO₃^-为N_A

D．78gNa₂O₂中含有O^2-为2N_A

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在强酸性溶液中，下列离子组能大量共存且溶液为无色透明的是（）

A．Na⁺、Fe²⁺、Cl^－、ClO^－	B．Na⁺、Cu²⁺、SO₄²^－、NO₃^－
C．Mg²⁺、NH₄⁺、SO₄²^－、Cl^－	D．NH₄⁺、SO₄²^－、OH^－、K⁺

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B．该反应利用了Cl₂的强氧化性

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D．该反应属于复分解反应

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A．14

B．15

C．16

D．17

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