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  • 更新 2022-09-03
  • 科目 化学
  • 题型 选择题
  • 难度 中等
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三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下列有关该反应的说法正确的是(   )

A.NF3分子中所有原子共平面 B.NF3在反应中既做氧化剂又做还原剂
C.生成0.2mol HNO3时转移0.2mol电子 D.氧化产物与还原产物的物质的量之比为2∶1
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三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮