三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮

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三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF₃＋5H₂O=2NO＋HNO₃＋9HF。下列有关该反应的说法正确的是( 　)

A．NF₃分子中所有原子共平面	B．NF₃在反应中既做氧化剂又做还原剂
C．生成0.2mol HNO₃时转移0.2mol电子	D．氧化产物与还原产物的物质的量之比为2∶1

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在无色透明的溶液中可以大量共存的离子组是 ( )

A．Mg²⁺、K⁺、Cl^－、NO₃^-	B．OH^－、Cl^－、Na⁺、NH₄+
C．H⁺、K⁺、Fe²⁺、NO₃^-	D．I^-、Cl^－、H⁺、Fe³⁺

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在反应3NO₂ + H₂O = 2HNO₃+ NO中，得电子的原子和失电子的原子个数之比为（）

A．3:1

B．1:1

C．1:2

D．2:1

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通过量CO₂于下列溶液中，最终出现浑浊的是（）

A．Ba(NO₃)₂溶液

B．澄清石灰水

C．Na₂SiO₃溶液

D．CaCl₂溶液

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下列离子方程式正确的是 ( )

A．氯气溶于水: Cl₂+ H₂O ===2H⁺ + Cl^—+ ClO^—

B．氯化铝溶液中加入过量氨水:Al³⁺+ 4NH₃·H₂O ===AlO₂^- + 4NH₄⁺+ 2H₂O

C．过量二氧化硫通入氢氧化钠溶液中:SO₂ + OH^- ===SO₃^2- + H₂O

D．氢氧化铝与足量盐酸反应，Al(OH)₃ + 3H⁺ ="==" Al³⁺ + 3H₂O

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把过氧化钠投入含有HCO₃^-、Cl^-、Mg²⁺、Na⁺的水溶液中，离子数目不变的是（）

A．HCO₃^-

B．Cl^-

C．Mg²⁺

D．Na⁺

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