三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下列有关该反应的说法正确的是( )
A.NF3分子中所有原子共平面 | B.NF3在反应中既做氧化剂又做还原剂 |
C.生成0.2mol HNO3时转移0.2mol电子 | D.氧化产物与还原产物的物质的量之比为2∶1 |
三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下列有关该反应的说法正确的是( )
A.NF3分子中所有原子共平面 | B.NF3在反应中既做氧化剂又做还原剂 |
C.生成0.2mol HNO3时转移0.2mol电子 | D.氧化产物与还原产物的物质的量之比为2∶1 |