三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3＋5H2O=2NO＋HNO3＋9HF。下列有关该反应的说法正确的是( )
| A．NF3分子中所有原子共平面 | B．NF3在反应中既做氧化剂又做还原剂 |
| C．生成0.2mol HNO3时转移0.2mol电子 | D．氧化产物与还原产物的物质的量之比为2∶1 |
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，则该烯烃的结构式可能有NA代表阿伏加德罗常数，下列说法正确的是
| A．9 g D2O中含有的电子数为5 NA |
| B．92 g NO2和N2O4混合气体中含有原子数为6 NA |
| C．1 mol C3H8分子中共价键总数为8 NA |
| D．65 g Zn全部溶解在一定浓度的硝酸溶液中，有NO生成，则转移的电子数为NA |
）的反应中，原子利用率最高的是
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