下表列出了除去物质中所含少量杂质的方法，其中错误的是
| A．物质：CO2；所含杂质：O2；除去杂质的方法：通过灼热的铜网 |
| B．物质：KOH溶液；所含杂质：K2CO3；除去杂质的方法：加入足量稀盐酸至不再产生气泡 |
| C．物质：NaCl；所含杂质：CaCO3；除去杂质的方法：溶解、过滤、蒸发 |
| D．物质：H2；所含杂质：H2O；除去杂质的方法：通过浓H2SO4 |
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Cu2O是一种半导体材料，用电解法制取Cu2O的总反应方程式为：
2Cu + H2O 通电 Cu2O + H2↑，该反应的基本类型是
| A．化合反应 | B．置换反应 | C．分解反应 | D．复分解反应 |
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