避蚊酯（DMP）是一种塑化剂．相对分子质量为194，摄人后对人体有一定的危害，其结构可表示为
（其中R为烃基）实验室由以下方法可得到DMP：
请回答：
（1）物质C中官能团的名称为 。
（2）下列有关DMP的说法可能正确的是 。（填字母标号）
A．DMP的分子式为C10H12O4
B．DMP可以发生取代、加成、氧化等反应
C．DMP在水中的溶解度不大
（3）B与乙二酸（
）在一定条件下可以按物质的量1：1发生反应生成高分子化合物，该高分子化合物的结构简式为 。
（4）工业上以邻二甲苯（
）为原料先生产苯酐（
），再使其与某醇在一定条件下反应制取DMP。苯酐与该醇制取DMP的化学方程式为 。
（5）芳香化合物E与C互为同分异构体，若lmo E与足量银氨溶液反应取多2mol Ag，则E可能的结构简式为 。B也存在多种同分异构体，符合下列条件的B的同分异构体有 种。
①lmol有机物可以与2mol NaOH反应②苯环上的一氯代物只有一种。
A、B、C、D均为中学化学常见的纯净物，A是单质。它们之间有如下的反应关系：
（1）若B是淡黄色固体，②③反应均用到同一种液态氢化物。D物质常用于食品工业。写出④反应的化学方程式 ；
（2）若B是气态氢化物，C、D是氧化物且会造成光化学烟雾污染。写出③反应的化学方程式 ；
（3）若D物质具有两性，②③反应均要用强碱溶液，④反应是通入过量的一种引起温室效应的主要气体。写出④反应离子方程式 ；
（4）若A是太阳能电池用的光伏材料。C、D为钠盐，两种物质中除钠、氧外的元素为同一主族，且溶液均显碱性。写出②反应的化学方程式 ；
（5）若A是应用最广泛的金属。④反应用到A，②⑤反应均用到同一种非金属单质。写出④反应的离子方程式 。
单质Z是一种常见的半导体材料，可由X通过如图所示的路线制备，其中X为Z的氧化物；Y为氢化物，分子结构与甲烷相似，回答下列问题：
（1）能与X发生化学反应的酸是 ；由X制备Mg2Z的化学方程式为 ；
（2）由Mg2Z生成Y的化学方程式为 ，Y分子的电子式为 。
（3）Z、X中共价键的类型分别是 、 。
下图中A～J均为中学化学中常见的物质．它们之间有如下转化关系。其中，A、D为金属单质，A元素是地壳中含量最多的金属元素（反应过程中生成的水及其它产物己略去）
请回答以下问题：
（1）B是______，H是________(填化学式)。
（2）写出A直接转化为F的离子反应方程式：_____________。
（3）写出E与过量氨水反应的离子反应方程式：_______________。
（4）H在空气中转化为I 的化学反应方程式：__________________。
（5）写出A与B高温下发生的化学反应方程式__________________。
（6）用一个离子方程式表示E转化为F___________________。
局部麻醉药普鲁卡因E（结构简式为
）的三条合成路线如图所示（部分反应试剂和条件已省略）：
请完成下列填空．
（1）比A多一个碳原子，且苯环上只有一个支链的A的同系物的名称是_______．反应①所需试剂和条件为_____________________。
（2）设计反应②的目的是______________。
（3）B的结构简式为_______________；C中官能团的名称是______________。
（4）满足下列条件的D的同分异构体的一种结构简式为__________或____________；1mol该物质与NaOH溶液共热最多消耗_________molNaOH．
①芳香族化合物②能发生水解反应③有3种不同环境的氢原子
（5）写出以A为原料（其他试剂任选）合成邻氨基苯甲酸甲酯(
)的合成路线流程图．
①已知：苯环取代基定位基团中甲基是邻对位定位基团；-NO2在Fe/HCl条件下还原成-NH2
②合成路线流程图示例如下：
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