除去下列物质中混有的少量杂质（括号内为杂质），所用方法正确的是（ ）
| A．CO2(CO)——通入氧气中点燃 |
| B．SO2(HCl)——通过足量的氢氧化钠溶液 |
| C．KCl固体 (KClO3)——加少量二氧化锰固体并加热 |
| D．NaCl溶液(NaHCO3)——滴加入稀盐酸至恰好完全反应 |
相关试题
工业上用甲和乙反应制备燃料丙。根据下列微观示意图得出的结论中，正确的是 （ ）
| A．乙的化学式为CO2 | B．甲、乙、丙的分子个数比为2：1：1 |
| C．甲、乙、丙都是氧化物 | D．该反应为化合反应 |
自主创新是我国“十一五”发展规划中提出的重大国策。经我国科学家的努力，已研制出具有自主知识产权的国产芯片，其核心部件是由硅单质为原料制成的，用化学方法制备高纯硅的反应原理是：SiCl4 + 2H2
Si + 4HCl，该反应属于（ ）
| A．化合反应 | B．置换反应 | C．分解反应 | D．复分解反应 |
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