除去下列物质中所含的少量杂质，下表中除杂方法正确的是选项物质

除去下列物质中所含的少量杂质，下表中除杂方法正确的是

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相关试题

开发新材料是现代科技发展的方向之一，下列有关材料的说法正确的是(　　)。

A．氮化硅陶瓷是新型无机非金属材料

B．C₆₀属于原子晶体，用于制造纳米材料

C．纤维素乙酸酯属于天然高分子材料

D．单晶硅常用于制造光导纤维

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化学雕刻法是指用化学药品在一些固体材料表面腐蚀出图案的方法。对以下材料进行化学雕刻，所用药品错误的是(　　)。

A．用氢氟酸雕刻玻璃

B．用浓硝酸雕刻水晶

C．用三氯化铁溶液雕刻铜板

D．用盐酸雕刻汉白玉

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2006年11月在珠海举行的国际航展上，我国展示了许多高科技军工产品。在这些军工产品上，使用了一种新型的航空材料，其主要成分是Si₃N₄陶瓷和碳纤维复合而成。下列相关叙述不正确的是(　　)。

A．它耐高温抗氧化

B．它比钢铁轻、硬，但质地较脆

C．它没有固定熔点

D．它是一种新型无机非金属材料

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青石棉(cricidolite)是世界卫生组织确认的一种致癌物质，是《鹿特丹公约》中受限制的46种化学品之一，青石棉的化学式为Na₂Fe₅Si₈O₂₂(OH)₂，青石棉用稀硝酸溶液处理时，还原产物只有NO，下列说法不正确的是 (　　)。

A．青石棉是一种易燃品且易溶于水

B．青石棉的化学组成用氧化物的形式可表示为Na₂O·3FeO·Fe₂O₃·8SiO₂·H₂O

C．1 mol Na₂Fe₅Si₈O₂₂(OH)₂与足量的硝酸作用，至少需消耗6 L 3 mol·L^－1的硝酸

D．Na₂Fe₅Si₈O₂₂(OH)₂能与氢氟酸作用

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工业上制备纯硅反应的热化学方程式如下：SiCl₄(g)＋2H₂(g)Si(s)＋4HCl(g)ΔH＝＋Q kJ·mol^－1(Q＞0)某温度、压强下，将一定量反应物通入密闭容器进行以上反应(此条件下为可逆反应)，下列叙述正确的是(　　)。

A．反应过程中，若增大压强能提高SiCl₄的转化率

B．若反应开始时SiCl₄为1 mol，则达到平衡时，吸收热量为Q kJ

C．反应至4 min时，若HCl浓度为0.12 mol·L^－1，则H₂的反应速率为0.03 mol·(L·min^－1)

D．当反应吸收热量为0.025Q kJ时，生成的HCl通入100 mL 1 mol·L^－1的NaOH溶液中恰好反应

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