近年,我国电子工业迅速发展,造成了大量的电路板刻蚀废液的产生和排放。刻蚀液主要有酸性的(HClH2O2)、碱性的(NH3NH4Cl)以及传统的(HClFeCl3)等三种,刻蚀废液中含有大量的Cu2+,废液的回收利用可减少铜资源的流失。几种刻蚀废液的常见处理方法如图:
(1)FeCl3型酸性废液回收铜并使刻蚀液再生,发生的主要离子反应有Fe+Cu2+===Fe2++Cu,2Fe3++Fe===3Fe2+,还有___________________________________________________,
___________________________________________________________(离子方程式表示)。
(2)HClH2O2型刻蚀液刻蚀Cu的过程中发生的化学反应用离子方程式可表示为:________________________________________________________________________。
(3)H2O2型酸性刻蚀废液回收Cu2O过程中,所加试剂A的最佳选择是________(填序号)。
①酸性高锰酸钾溶液;②固体NaCl;③甲醛;④葡萄糖
(4)碱性刻蚀液发生的反应是:2Cu+O2+4NH4Cl+4NH3·H2O===2Cu(NH3)4Cl2+6H2O,处理碱性刻蚀废液过程中加入NH4Cl固体并通入NH3(g)的目的是:
________________________________________________________________________。