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  • 更新 2022-09-03
  • 科目 化学
  • 题型 计算题
  • 难度 中等
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10分)电子工业中清洗硅片上的SiO2(s)的反应是
SiO2(s)+4HF(g) ==SiF4(g)+2H2O(g) △H(298.15K)=-94.0kJ·mol-1  △S(298.15K)=-75.8J·mol-1 ·K-1 △H△S不随温度而变,试求此反应自发进行的温度条件。

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10分)电子工业中清洗硅片上的SiO2(s)的反应是SiO2