写出下列物质的电离方程式:HNO3 Ba(OH)2 NaHCO3 KAl(SO)2
已知有以下物质相互转化 试回答:(1)写出E的化学式,H的化学式。 (2)写出由E转变成F的化学方程式。 (3)检验G溶液中的金属阳离子的方法是:; 向G溶液加入A的有关离子反应方程式。 (4)写出A在一定条件下与水反应的化学方程式。
如下图所示中各方框表示有关的一种反应物或生成物(某些物质已经略去),其中常温下A、C和D为无色气体,C能使湿润的红色石蕊试纸变蓝,X分解产生A、B和C三种产物的比值为1:1:1。 (1)写出下列各物质的化学式: X:;B:;F:;G:。 (2)按要求写出下列变化的反应化学方程式: A→D的化学反应方程式:; G→E的离子反应方程式:。
把19.2 g 的Cu放入500mL 2 mol·L-1稀硝酸中,充分反应,Cu完全溶解。求: (1)写出Cu与稀硝酸反应的离子方程式:; (2)铜完全溶解时转移电子数目为(用含NA的式子表示); (3)氧化剂与还原剂的物质的量比为。 (4)反应后溶液中C(H+)为(体积变化忽略不计)
有一无色透明的溶液,要确定是否含有以下离子:K+、Mg2+、Al3+、Fe2+、Ba2+、NO3-、SO42-、Cl-、I-、HCO3-,取该溶液实验如下:
由此判断: (1)溶液中肯定存在的离子是___________________________________________________________,溶液中肯定不存在的离子是__________________________________________________________________。 (2)为进一步确定其他离子,应该补充的实验及对应欲检离子的名称(如为溶液反应,说明使用试剂的名称,不必写详细操作步骤)。_________________________________________________________。
请回答下列问题: (1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下: ①写出由纯制备高纯硅的化学方程式: ____________________________________。 ②整个制备过程必须严格控制无水无氧。遇水剧烈反应生成、HCl和另一种物质,配平后的化学反应方程式为___________________________;还原过程中若混入可能引起的后果是____________________________________。 (2)下列有关硅材料的说法正确的是_________ (填字母)。
E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅 (3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入稀硝酸,振荡。写出实验现象并给予解释。