根据相关的化学原理,下列判断正确的是
A.由于氟化氢分子间存在氢键,所以稳定性:HF>HCl |
B.由于二氧化硅的相对分子质量比二氧化碳的大,所以沸点:SiO2>CO2 |
C.若A2 + 2D- ="=" 2A- + D2,则氧化性D2>A2 |
D.若R2—和M+的电子层结构相同,则离子半径R2—>M+ |
根据相关的化学原理,下列判断正确的是
A.由于氟化氢分子间存在氢键,所以稳定性:HF>HCl |
B.由于二氧化硅的相对分子质量比二氧化碳的大,所以沸点:SiO2>CO2 |
C.若A2 + 2D- ="=" 2A- + D2,则氧化性D2>A2 |
D.若R2—和M+的电子层结构相同,则离子半径R2—>M+ |