根据相关的化学原理，下列判断正确的是
| A．由于氟化氢分子间存在氢键，所以稳定性：HF＞HCl |
| B．由于二氧化硅的相对分子质量比二氧化碳的大，所以沸点：SiO2＞CO2 |
| C．若A2 + 2D- ="=" 2A- + D2，则氧化性D2＞A2 |
| D．若R2—和M+的电子层结构相同，则离子半径R2—＞M+ |
相关试题
根据相关的化学原理，下列判断正确的是
| A．由于氟化氢分子间存在氢键，所以稳定性：HF＞HCl |
| B．由于二氧化硅的相对分子质量比二氧化碳的大，所以沸点：SiO2＞CO2 |
| C．若A2 + 2D- ="=" 2A- + D2，则氧化性D2＞A2 |
| D．若R2—和M+的电子层结构相同，则离子半径R2—＞M+ |
以后的副产品，其主要成分为低水平放射性的
。下列有关
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