标准状况下，将a L H2和Cl2的混合气体点燃，充分反应后，将混合气体通入含b mol NaOH的热溶液中，气体恰好被完全吸收，NaOH无剩余，测得反应后溶液中含Cl－、ClO－、ClO3－，则原混合气体中H2的物质的量为
| A．a/2 mol | B．(a/22.4－b) mol |
| C．(a/22.4－b/2) mol | D．b/2 mol |
相关试题
氧化还原反应与四种基本类型反应的关系如右图所示，则下列化学反应属于区域3的是
| A．Cl2＋ 2KBr |
B．2NaHCO3 Na2CO3 + H2O + CO2↑ |
| C．4Fe(OH)2 + O2 + 2H2O |
| D．CH4 + 2O2 |
下列反应属于氧化还原反应的是
A．H2SO4＋2NaOH  Na2SO4＋2H2O |
B．MnO2＋ 4HCl MnCl2+ Cl2↑＋ 2H2O |
| C．NH3 + HCl NH4Cl |
| D．2NaHCO3 Na2CO3 + CO2↑ + H2O |
单晶硅是制作电子集成电路的基础材料。用化学方法可制得高纯度硅，其化学方程式为：①SiO2 + 2C
Si + 2CO②Si + 2Cl2
SiCl4③SiCl4 + 2H2
Si + 4HCl，其中，反应①和③属于
| A．化合反应 | B．分解反应 | C．置换反应 | D．复分解反应 |
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