半导体工业用石英砂做原料，通过三个重要反应生产单质硅：
①SiO2(s)+2C(s) =" Si(s)+2CO(g) " △H =" +682.44" kJ/mol
(石英砂) （粗硅）
②Si(s)+2Cl2(g) = SiCl4(g) △H = -657.01kJ/mol
(粗硅)
③SiCl4(g)+2Mg(s) 
= 2MgCl2(s)+Si(s) △H =" -625.63" kJ/mol
（纯硅）
生产1.00kg纯硅的总反应热为
| A．+2.43×104kJ | B．-2.35×104kJ | C．-2.23×104kJ | D．-2.14×104kJ |
相关试题
标准状况下，将11.2 L O2、11 g CO2、0.25 mol N2混合，则该混合气体的体积为（ ）
| A．2.24L | B．22.4 L | C．44.8 L | D．24.5 L |
要配制1 mol·L-1的NaOH溶液100mL，下面操作正确的是（ ）
| A．称取8g NaOH固体，放入烧杯里，用量筒量取100mL 蒸馏水倒入烧杯中，搅拌充分溶解 |
| B．称取8g NaOH固体，放入100mL量筒中，加水，充分溶解并稀释至100mL |
| C．称取8g NaOH固体，放入100mL容量瓶中，加蒸馏水溶解，再加水至刻度线，盖好瓶塞，反复摇匀。 |
| D．称取8g NaOH固体，放入烧杯里，加适量水溶解，将溶液转移到容量瓶中，洗涤烧杯和玻璃棒，把洗液一并转移到容量瓶中，再加水将溶液体积调至100mL |
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