单晶硅是制作电子集成电路的基础材料。科学家预计，到2011年一个电脑芯片上将会集成10亿个晶体管，其功能远比我们想象的要大的多，这对硅的纯度要求很高。用化学方法可制得高纯度硅，其化学方程式为 ： ①SiO2＋ 2 C 
Si ＋ 2 CO
②Si ＋ 2Cl2 SiCl4 ③SiCl4 + 2H2 Si + 4HCl，其中反应①和③都属于
| A．分解反应 | B．化合反应 |
| C．置换反应 | D．复分解反应 |
相关试题
下列离子方程式只能表示一个化学反应的是
| A．H+ + OH－= H2O |
| B．Cl－+ Ag+ = AgCl↓ |
| C．Cu2++2OH－+Ba2++SO42－= BaSO4↓+Cu(OH)2↓ |
| D．H++ SO42－+ OH－+ Ba2+ = BaSO4↓+ H2O |
连二亚硫酸钠（Na2S2O4）是重要的化工原料，该物质在潮湿的空气中极不稳定，易分解并引起燃烧，反应的化学方程式为：2Na2S2O4═Na2S2O3+X+SO2↑．下列说法不正确的是
| A．X的化学式为Na2SO4 | B．SO2污染空气 |
| C．Na2S2O3中S的化合价为+2 | D．Na2S2O4要在干燥阴凉处密闭保存 |
下列电离方程式书写正确的是：
A．CH3COONH4 CH3COO－+ NH4＋ |
B．HI = H＋+I－ |
C．H2S 2H＋+S2－ |
D．NaHCO3 = Na＋+H＋+CO32－ |
下列实验操作能达到实验目的是
| 实验目的 |
实验操作 |
|
| A |
NaCl溶液中混有盐酸 |
取少量溶液，滴加无色酚酞溶液 |
| B |
比较Fe、Cu、Ag的金属活动性 |
铁丝浸入CuSO4溶液，铜丝浸入AgNO3溶液[ |
| C |
除去铁制品上的铁锈 |
将铁制品长时间浸泡在足量的稀硫酸中 |
| D |
除去粗盐中的难溶性杂质 |
将粗盐研碎、溶解、过滤、洗涤干燥 |
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