下列过程对应的离子方程式正确的是( )
用氢氟酸刻蚀玻璃: Si O 3 2 - +4 F - +6 H + =Si F 4 ↑+3 H 2 O
用三氯化铁溶液刻制覆铜电路板: 2F e 3 + +3Cu=3C u 2 + +2Fe
用硫代硫酸钠溶液脱氯: S 2 O 3 2 - +2C l 2 +3 H 2 O=2S O 3 2 - +4C l - +6 H +
用碳酸钠溶液浸泡锅炉水垢中的硫酸钙: CaS O 4 +C O 3 2 - =CaC O 3 +S O 4 2 -
一元弱酸HA(aq)中存在下列电离平衡:HAA-+H+。将1.0 mol HA分子加入水中制得1.0 L溶液,下图中,表示溶液中HA、H+、A-的物质的量浓度随时间而变化的曲线正确的是( )
在0.1 mol·L-1的HCN溶液中存在如下电离平衡HCNH++CN-,对该平衡,下列叙述正确的是( )
把1 L 0.1 mol·L-1醋酸溶液用蒸馏水稀释到10 L,下列叙述正确的是( )
甲酸的下列性质中,可以证明它是弱电解质的是( )
下列电离方程式正确的是( )