下列过程对应的离子方程式正确的是（ ）

A．	用氢氟酸刻蚀玻璃： $\mathit{Si}{O}_3^{2-}+4F^{-}+6H^{+}=\mathit{Si}{F}_4\uparrow +3H_{2}O$
B．	用三氯化铁溶液刻制覆铜电路板： $2F{e}^{3+}+3\mathit{Cu}=3C{u}^{2+}+2\mathit{Fe}$
C．	用硫代硫酸钠溶液脱氯： $S_2{O}_3^{2-}+2C{l}_2+3H_{2}O=2S{O}_3^{2-}+4C{l}^{-}+6H^{+}$
D．	用碳酸钠溶液浸泡锅炉水垢中的硫酸钙： $\mathit{CaS}{O}_4+C{O}_3^{2-}=\mathit{CaC}{O}_3+S{O}_4^{2-}$