下列过程对应的离子方程式正确的是（）A．用氢氟酸刻蚀玻璃：S

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下列过程对应的离子方程式正确的是（）

A．	用氢氟酸刻蚀玻璃： $Si O_{3}^{2 -} + 4 F^{-} + 6 H^{+} = Si F_{4} ↑ + 3 H_{2} O$
B．	用三氯化铁溶液刻制覆铜电路板： $2 F e^{3 +} + 3 Cu = 3 C u^{2 +} + 2 Fe$
C．	用硫代硫酸钠溶液脱氯： $S_{2} O_{3}^{2 -} + 2 C l_{2} + 3 H_{2} O = 2 S O_{3}^{2 -} + 4 C l^{-} + 6 H^{+}$
D．	用碳酸钠溶液浸泡锅炉水垢中的硫酸钙： $CaS O_{4} + C O_{3}^{2 -} = CaC O_{3} + S O_{4}^{2 -}$

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