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  • 更新 2023-09-28
  • 科目 化学
  • 题型 选择题
  • 难度 中等
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中国芯片蚀刻技术国际领先。 N F 3 进行硅芯片蚀刻时的产物均为气体,在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应微观示意图如下,下列说法正确的是(  )

A.

上述四种物质均由分子构成

B.

反应前后各元素的化合价均不变

C.

空气中物质丁的质量分数为78%

D.

反应生成的丙和丁微粒数之比为 3 : 2

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中国芯片蚀刻技术国际领先。NF3进行硅芯片蚀刻时的产物均为气