中国芯片蚀刻技术国际领先。NF3进行硅芯片蚀刻时的产物均为气

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中国芯片蚀刻技术国际领先。 $N F_{3}$ 进行硅芯片蚀刻时的产物均为气体，在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应微观示意图如下，下列说法正确的是（　　）

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关于C₆₀的说法正确的是( )

A．它是一种新型的碳的化合物	B．它是一种新型的碳单质
C．它是由碳原子直接构成的	D．它的相对分子质量是60

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下列物质中，可用来制作铅笔芯的是（）

A．铁

B．金刚石

C．石灰石

D．石墨

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石墨可以用于化工厂中的耐酸塔，原因是石墨( )

A．熔点高	B．有滑腻感
C．硬度小	D．常温性质稳定，不与酸碱等反应

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碳单质存在形式多种，用途各不相同，下列图中体现活性炭用途的是（）

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在4P + 5O₂点燃2P₂O₅的反应中，P、O₂、P₂O₅的质量比为（）

A．4:5:2	B．7:4 :11
C．31:32:142	D．124:160:284

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