高纯CO可用于半导体领域某些芯片的刻蚀，利用甲酸（HCOOH）制取高纯CO的主要流程如图：

（1）甲酸中碳元素和氧元素的质量比为 　     　。

（2）反应塔中甲酸分解的微现示意图如图，在方框中补全另一种产物的微粒图示 　　。

（3）反应塔中发生副反应产生微量CO₂。洗涤器中加入NaOH溶液的目的是中和未反应的甲酸蒸气，并除去CO₂，NaOH与CO₂反应的化学方程式为 　               　。