I. 书写下列反应的化学方程式
(1) 用FeCl3溶液作为腐蚀液刻制铜印刷电路板 ;
(2) 工业上粗硅的制取:
II. 与量有关的离子方程式书写
(1) Ba(OH)2溶液与NaHSO4溶液反应后溶液呈中性:
离子方程式 ;
(2) Ca(HCO3)2溶液与少量NaOH溶液反应
离子方程式 ;
(3) Al2(SO4)3溶液与过量NaOH溶液反应
离子方程式 ;
(学法题)书写此类离子方程式的关键是: 。