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  • 更新 2022-09-03
  • 科目 化学
  • 题型 推断题
  • 难度 困难
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光刻胶是一种应用广泛的光敏材料,其合成路线如下(部分试剂和产物略去):
已知:
Ⅰ.(R,R’为烃基或氢)
Ⅱ.(R,R’为烃基)
(1)A分子中含氧官能团名称为         
(2)C物质可发生的反应类型为          (填字母序号)。
a.加聚反应    b. 酯化反应   c. 还原反应    d.缩聚反应
(3)B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为         
(4)乙炔和羧酸X加成生成E,E的核磁共振氢谱为三组峰,且峰面积比为3:2:1,E能发生水解反应,则E的结构简式为         
(5)与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有          种,写出其中的一种同分异构体的结构简式为        
(6)D和G反应生成光刻胶的化学方程式为         

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光刻胶是一种应用广泛的光敏材料,其合成路线如下(部分试剂和产