分工业上合成氨是在一定条件下进行如下反应：
N2（g）+3H2（g）
2NH3（g），△H=﹣92.44kJ/mol；回答下列问题：
①写出该反应的化学平衡常数表达式：K= ．随着温度的升高，K值 。（填增大、减小、不变）．
②平衡常数K值越大，表明 （填序号）．
| A．N2的转化率越高 | B．NH3的产率越大 |
| C．原料中N2的含量越高 | D．化学反应速率越快 |
有机物A为绿色荧光蛋白在一定条件下水解的最终产物之一，结构简式为：
请回答下列问题：（1）A的分子式为。
（2）A与氢氧化钠溶液反应的化学方程式为。
（3）已知：
两个A分子在一定条件下生成的化合物结构简式为。（4）符合下列4个条件的同分异构体有6种，写出其中三种。①1，3，5-三取代苯②遇氯化铁溶液发生显色反应③氨基与苯环直接相连④属于酯类
硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：
制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：
（1）在制粗硅的反应中，焦炭的作用是。
（2）整个制备过程必须严格控制无水、无氧。
①SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式 ；②H2还原SiHCl3过程中若混O2，可能引起的后果是。
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出
实验现象并给予解释 。
将羧酸的碱金属盐电解可得到烃类化合物。例如：
2CH3COOK＋2H2O
CH3－CH3＋2CO2↑＋H2↑＋2KOH
请根据下列表示的衍变关系，回答问题。
（1）写出下列物质的结构简式A： E： I
（2）G能发生反应的类型有（填序号）：
a.取代 b.加成 c.还原 d.氧化 e.消去 f.水解
（3）写出H的最简单的两种同系物的结构简式，。
（4）F与J的关系为（填序号） a.同一物质 b.同系物 c.同分异构体 d.同素异形体
（5）写出下列过程的化学方程式：
Ｃ→Ｄ： Ｃ＋Ｅ→Ｆ：
10分）A、B、C、D、E是位于短周期的主族元素，其中A、B为金属元素。已知：①热稳定性：HmD＞HmC；②Cm－、E（m－1）-具有相同的电子层结构；③B与E在同一周期，在该周期中，E的原子半径最小，B的离子半径最小；④A、B所形成的单核离子具有相同的电子层结构，B的最高价氧化物对应的水化物与A、E的最高价氧化物对应的水化物都能反应。依据上述信息回答下列问题：（1）HmD的电子式：___________________。
（2）Cm－、E（m－1）-的还原性强弱为___________＞___________（填离子符号），能证明其
还原性强弱的离子方程式为。
（3）写出B的最高价氧化物对应的水化物和A的最高价氧化物对应的水化物反应的离子方程式_________________________________________________________。
（4）在B、C、E单质中，符合下列转化关系的是___________。（填元素符号）
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