符合图中阴影部分的物质是A．Na2CO3B．Cu2（OH）2

符合图中阴影部分的物质是

A．Na₂CO₃

B．Cu₂（O H）₂CO₃

C．NaCl

D．NaHCO₃

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实验室制下列各组气体，所用气体发生装置相同的是

A．H₂和CO₂

B．H₂和O₂

C．Cl₂和CO₂

D．Cl₂和H₂

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将Na₂O₂逐渐加入到含有Al³^＋、Mg²^＋、NH₄^＋的混合液中并微热，产生沉淀和气体的物质的量（mol)与加入Na₂O₂的物质的量的关系如图所示则原溶液中Al³^＋、Mg²^＋、NH₄^＋的物质的量分别为

A．2 mol、3 mol、8 mol

B．3 mol、2 mol、8 mol

C．2 mol、3 mol、4 mol

D．3 mol、2 mol、4 mol

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三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：
3NF₃+5H₂O=2NO+HNO₃+9HF。下了有关该反应的说法正确的是:

A．NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂

B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1

C．若生成0.2mol HNO₃，则转移0.2mol电子

D．NF₃在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

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14g铜金合金与足量的某浓度HNO₃反应，将产生的气体用1.12L(标准状况)O₂混合，通入水中，气体恰好被完全吸收，则合金中铜的质量为

A．9.6g

B．6.4g

C．3.2g

D．1.6g

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下列各组关系正确的是：

A．原子半径 N<P<S	B．稳定性 NH₃<H₂O<HF
C．碱性 NaOH>KOH	D．酸性 H₃AsO₄>H₂SeO₄>HBrO₄

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