首页 / 高中化学 / 试题详细
  • 更新 2022-09-03
  • 科目 化学
  • 题型 选择题
  • 难度 中等
  • 浏览 254

三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O 2NO+HNO3+9 HF,下列有关该反应的说法正确的是

A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂
B.HF是还原产物
C.还原剂和氧化剂的物质的量之比是2∶1
D.NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体
登录免费查看答案和解析

三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮