氮化硅（Si3N4）是一种新型陶瓷材料，它可由石英与焦炭在高温的氮气流中反应制得：
①3SiO2+6C+2N2
Si3N4+6CO，也可由SiCl4的蒸汽和NH3反应制取：
②3SiCl4+4NH3
Si3N4+12HCl。则下列叙述正确的是
| A．反应②属于离子反应 |
| B．若制取等量的Si3N4，则反应①②转移电子数目必然相等 |
| C．反应①的氧化剂是N2 |
| D．反应①中氧化产物与还原产物物质的量之比为1:6 |
相关试题
常温时，下列关于电解质溶液的叙述正确的是 （ ）
| A．稀释pH= 10的氨水，溶液中所有离子的浓度均降低 |
| B．pH均为5的盐酸和氯化铵溶液中，水的电离程度相同 |
| C．等浓度的碳酸钠与碳酸氢钠溶液相比，碳酸钠溶液的pH大 |
| D．分别中和pH与体积均相同的硫酸和醋酸，硫酸消耗氢氧化钠的物质的量多 |
对羟基扁桃酸是农药、药物、香料合成的重要中间体，它可由苯酚和乙醛酸在一定条件 下反应制得。 
下列有关说法不正确的是 （ ）
| A．上述反应的原子利用率可达到100% |
| B．在核磁共振氢谱中对羟基扁桃酸应该有6个吸收峰 |
| C．对羟基扁桃酸可以发生加成反应、取代反应和缩聚反应 |
| D．lmol对羟基扁桃酸与足量NaOH溶液反应，消耗3 mol NaOH |
能正确解释下列反应原理的离子方程式是 （ ）
| A．用明矾作净水剂：Al3++3H2O=Al(OH)3↓+3H+ |
| B．用小苏打治疗胃酸过多：CO2-3+2H+=CO2↑+H2O |
| C．用氯化铁溶液腐蚀印刷线路板上的铜：Fe3++ Cu=Fe2++ Cu2+ |
| D．用碳酸钠溶液浸泡锅炉水垢：CaSO4+CO2-3=CaCO3↓+SO2-4 |
25℃时，浓度均为0.1 moI．L-l的HA溶液和BOH溶液，pH分别是l和11。下列说法正确的是（ ）
| A．BOH溶于水，其电离方程式是BOH=B++ OH |
| B．若一定量的上述两溶液混合后pH=7，则c(A—)=c(B+) |
| C．在0.1 mol·L-lBA溶液中，c(B+)>c（A一）> c(OH-)>c(H+) |
| D．若将0.1mol·L-lBOH溶液稀释至0.001mol·L-1，则溶液的pH=9 |
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