下列表示对应化学反应的离子方程式正确的是:
半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅 SiO2(s)+2C(s)=Si(s)+2CO(g)△H1=+682.44kJ·mol-1 (石英砂) (粗硅) Si(s)+2C12(g)=SiCl4(l)△H2=一657.01kJ·mol-1 (粗硅) SiCl4(l)+2Mg(s)=2MgCl2(s)+Si(s) △H3=一625.63kJ·mol-1 (纯硅) 若生产1.00kg纯硅放出的热量为
向含有Fe2+、I-、Br-的溶液中通入适量氯气,溶液中各种离子的物质的量变化如下图所示。有关说法不正确的是
对溶液中的反应,如图图像中m表示生成沉淀的物质的量,n表示参加反应的某一种反应物的物质的量,则下列叙述中错误的是 甲乙丙
等物质的量的N2、O2、CO2混合气体通过Na2O2后,体积变为原体积的8/9(同温同压),这时混合气体中N2、O2、CO2的物质的量之比为
下图中a、b、c表示相应仪器中加入的试剂,可用下图装置制取、净化、收集的气体是