三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮

三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应：3NF₃ +5H₂O="=2NO" + HNO₃ +9HF，下列有关该反应的说法正确的是

A．NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂

B．HF是还原产物

C．还原剂和氧化剂的物质的量之比是2:1

D．NF₃在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

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