三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮

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三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应：3NF₃ +5H₂O="=2NO" + HNO₃ +9HF，下列有关该反应的说法正确的是

A．NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂

B．HF是还原产物

C．还原剂和氧化剂的物质的量之比是2:1

D．NF₃在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

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将足量的SO₂通入下列各溶液中，所含离子还能大量共存的是

A．K^＋、SiO₃^2-、Cl^－、NO₃^-

B．H^＋、NH₄⁺、Al³^＋、SO₄^2-

C．Na^＋、Cl^－、MnO₄^-、SO₄^2-

D．Na^＋、CO₃^2-、CH₃COO^－、HCO₃^-

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下列各组离子因发生氧化还原反应而不能大量共存的是

A．H^＋、Fe²^＋、Cr₂O₇^2-、SO₄^2-

B．Ca²^＋、H^＋、SO₄^2-、HCO₃^-

C．Na^＋、Cu²^＋、Cl^－、S²^－

D．Fe³^＋、K^＋、SCN^－、Cl^－

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在水溶液中能大量共存的一组离子是

A．Fe²⁺、Al³⁺、ClO^—、Cl^—	B．K⁺、Cu²⁺、OH、NO₃^—
C．NH₄⁺、Na⁺、Br^—、SO₄^2—	D．Mg²⁺、H⁺、SiO₃^2-、SO₄^2-

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常温下，下列各组离子在指定溶液中一定能大量共存的是

A．0. 1mol·L^-1NaOH 溶液： K^＋、Na^＋、SO₄²^－、CO₃²^－

B．0. 1mol·L^-1Na₂CO₃溶液：K^＋、Ba²^＋、NO₃^－、Cl^－

C．0. 1mol·L^-1FeCl₃溶液：K^＋、NH₄⁺、I^－、SCN^－

D．c(H^＋)/c(OH^－)= 1×10¹⁴的溶液：Ca²^＋、Na^＋、ClO^－、NO₃^－

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在水溶液中能大量共存的一组离子是

A．Na⁺、Ba²⁺、Cl^-、NO₃^-	B．Pb²⁺、Hg²⁺、S^2-、SO₄^2-
C．NH₄⁺、H⁺、S₂O₃^2-、PO₄^3-	D．Ca²⁺、Al³⁺、Br^-、CO₃^2-

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