硅是信息技术的关键材料，高温下氢气与四氯化硅（SiCl4）反应可制得 高纯度的硅，该反应的化学反应方程式为：2H2+SiCl4
Si+4X，下列说法正确的是
| A．推出 X 是氯化氢气体，它溶于水可制成盐酸 |
| B．该反应可以在有氧气或水蒸气存在的条件下进行 |
| C．四氯化硅是由一个硅原子和四个氯原子构成 |
| D．该生产过程中的氢气可用碳单质代替 |
相关试题
除去下列物质中的杂质所选用的试剂及操作方法不正确的一组是
| 物质 |
所含杂质 |
除去杂质的方法 |
|
| A |
KOH溶液 |
（K2CO3） |
Ca(OH）2溶液、过滤 |
| B |
N2气体 |
（O2） |
将气体缓缓通过灼热的铜网 |
| C |
CuO |
（Cu） |
稀硫酸溶液、过滤 |
| D |
KNO3 |
（NaCl） |
热水、降温结晶、过滤 |
下图是甲、乙两物质的溶解度曲线。下列说法中不正确是
| A．t1℃时，甲物质的溶解度小于乙物质的溶解度 |
| B．t2℃时，甲、乙两物质的饱和溶液中含甲、乙两物质的质量相等 |
| C．t3℃的甲、乙两物质的饱和溶液降温至t2℃时，都会析出晶体 |
| D．当甲物质中混有少量乙物质时，可采用冷却热饱和溶液的方法提纯甲 |
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