下列各组离子在溶液中一定能大量共存的是
已知:25°C时, K φ [Mg(OH ) 2 ]=5.61×10 - 12 , K φ [Mg F 2 ]=7.42×10 - 11 。下列说法正确的是()
25°C时,饱和 Mg(OH ) 2 溶液与饱和 Mg F 2 溶液相比,前者的 c M g 2 + 大
25°C时,在 Mg(OH ) 2 的悬浊液加入少量的 N H 4 Cl 固体, c M g 2 + 增大
25°C时, Mg(OH ) 2 固体在20ml0.01 mol ·L - 1 氨水中的 K φ 比在20mL0.01mol ·L - 1 N H 4 Cl 溶液中的 K φ 小
25°C时,在 Mg(OH ) 2 的悬浊液加入 N a F 溶液后, Mg(OH ) 2 不可能转化成为 M a F
用 N A 表示阿伏加德罗常数的值,下列说法正确的是()
标准状况下,5.6 L 一氧化氮和5.6 L 氧化混合后的分子总数为0.5 N A
1 mol 乙烷分子含有8 N A 个共价键
58.5 g 的氯化钠固体中含有 N A 个氯化钠分子
在1 L 0.1 mol/L 碳酸钠溶液中,阴离子总数大于0.1 N A
下列说法正确的是
一种从植物中提取的天然化合物 a-damascone ,可用于制作"香水",其结构为:,
有关该化合物的下列说法不正确的是()
分子式为 C 13 H 26 O
该化合物可发生聚合反应
1 mol 该化合物完全燃烧消耗19 mol O 2
与溴的 CC l 4 溶液反应生成的产物经水解、稀硝酸化后可用 AgN O 3 溶液检验
单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硫、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500°C),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。相关信息如下:a.四氯化硅遇水极易水解;b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;c.有关物质的物理常数见下表:请回答下列问题:(1)写出装置A中发生反应的离子方程式 。(2)装置A中g管的作用是 ;装置C中的试剂是 ;装置E中的h瓶需要冷却理由是 。(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是 (填写元素符号)。(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,是铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:①滴定前是否要滴加指示剂? (填“是”或“否”),请说明理由 。②某同学称取5.000g残留物,预处理后在容量瓶中配制成100ml溶液,移取25.00ml,试样溶液,用1.000×10-2mol· L-1KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00ml,则残留物中铁元素的质量分数是 。