三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下列有关说法正确的是
下列表示对应反应的离子方程式中,不正确的是( )。
下列化学反应的离子方程式书写正确的是( )。
能正确表示下列反应的离子方程式是( )。
下列离子方程式表示正确的是( )。
下列反应对应的离子方程式书写正确的是( )。