三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3＋5H2O=2NO＋HNO3＋9HF。下列有关说法正确的是
| A．NF3既是氧化剂，又是还原剂 |
| B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2∶1 |
| C．若生成0.2 mol HNO3，则转移0.2 mol电子 |
| D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生无色气体 |
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已知某可逆反应mA(g)+nB(g)
pC(g)在密闭容器中进行，下图表示在不同反应时间t 时，温度T和压强P与生成物C在混合物中的体积百分含量的关系曲线。
由曲线分析，下列判断正确的是（ ）
反应A＋3B＝2C＋D在四种不同情况下的反应速率分别为
①v(A) ＝0.15mol/(L·s) ②v(B)＝0.6mol/(L·s) ③v(C)＝0.5mol/(L·s)
④v (D) ＝0.45mol/(L·s)
则反应进行由快到慢的顺序为（ ）
A．④＞③＞①＞② B．②＞④＞③＞① C．②＞③＞④＞① D．④＞③＞②＞①
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