三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中

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更新 2022-09-03
科目化学
题型选择题
难度较难
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挑错有奖

三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生如下反应：3NF₃+5H₂O=2NO+HNO₃+9HF。下列有关该反应的说法正确的是

A．NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂

B．NF₃在潮湿空气中泄漏会看到红棕色气体

C．每消耗0.2mol氧化剂，可收集到5.418L气体

D．若生成1molHNO₃，则转移N_A个电子

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下列分子中，所有原子的最外层均为8电子结构的是（）。

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