三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O 2NO+HNO3+9 HF,下列有关该反应的说法正确的是
下列有关硅元素的叙述中,正确的是
下列叙述中正确的是
NA为阿伏加德罗常数,下列说法正确的是
材料与化学密切相关。下列物质与材料对应关系不正确的是
下列反应中,水作还原剂的是