三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮

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三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF₃+5H₂O 2NO+HNO₃+9 HF，下列有关该反应的说法正确的是

A．NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂

B．HF是还原产物

C．还原剂和氧化剂的物质的量之比是2∶1

D．NF₃在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

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下列分子中所有原子不可能处于同一平面（）

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由烃基和下列基团相互结合所构成的化合物中，属于醇类的是（）

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C．C₆H₅-CH₂-

D．CH₃-C₆H₅-

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下列物质中最难电离出H⁺的是（）

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D．C₆H₅OH

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A．

3种

B．

4种

C．

5种

D．

6 种

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向下列溶液中通人过量 CO₂，最终出现浑浊的是（）

A．氢氧化钙饱和溶液	B．苯酚钠饱和溶液
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