三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮

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三氟化氮（NF₃）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：
3 NF₃ + 5 H₂O =" 2" NO + HNO₃ + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是

A．NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂

B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1

C．若生成0.2 mol HNO₃，则转移0.2 mol电子

D．NF₃在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

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