三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3 NF3 + 5 H2O =" 2" NO + HNO3 + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是
在2KMnO4 + 16HCl = 2KCl + 2MnCl 2+ 5Cl 2↑ + 8H2O反应中,氧化剂是
下列反应既是离子反应又是氧化还原反应的是
能用H++OH-=H2O来表示的化学反应是
下列离子方程式正确的是
在无色透明的强酸性溶液中,能大量共存的离子组是