(15分)高纯晶体硅是信息技术的关键材料。
（1）硅元素位于周期表的______周期______族。下面有关硅材料的说法中正确的是__________(填字母)。
| A．碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥 |
| B．氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承 |
| C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料———光导纤维 |
| D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，故在玻璃尖口点燃H2时出现黄色火焰 |
E．盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
（2）工业上用石英砂和焦炭可制得粗硅。
已知： 
请将以下反应的热化学方程式补充完整：
SiO2(s) + 2C(s) ="==" Si(s) + 2CO(g) △H = ________
（3）粗硅经系列反应可生成硅烷(SiH4)，硅烷分解生成高纯硅。已知硅烷的分解温度远低于甲烷，用原子结构解释其原因：_________，Si元素的非金属性弱于C元素，硅烷的热稳定性弱于甲烷。
（4）将粗硅转化成三氯氢硅(SiHCl3)，进一步反应也可制得高纯硅。
①SiHCl3中含有的SiCl4、AsCl3等杂质对晶体硅的质量有影响。根据下表数据，可用________ 方法提纯SiHCl3。
| 物质 |
SiHCl3 |
SiCl4 |
AsCl3 |
| 沸点/℃ |
32.0 |
57.5 |
131.6 |
②用SiHCl3制备高纯硅的反应为SiHCl3(g) +H2(g) 
Si(s) + 3HCl(g)， 不同温度下，SiHCl3的平衡转化率随反应物的投料比(反应初始时，各反应物的物质的量之比)的变化关系如右图所示。下列说法正确的是________(填字母序号)。
a．该反应的平衡常数随温度升高而增大
b．横坐标表示的投料比应该是
c．实际生产中为提高SiHCl3的利用率，应适当升高温度
③整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式：____________________。
聚酰胺-66常用于生产帐篷、渔网、降落伞及弹力丝袜等织物，可利用下列路线合成：
已知反应：
（1）能与银氨溶液反应的B的同分异构体的结构简式为，
（2）的结构简式为，①的反应类型为，
（3）为检验中的官能团，所用试剂包括NaOH水溶液及
（4）由和
生成H的反应方程式为
。
卤族元素包括等。
（1）下列曲线表示卤族元素某种性质随核电荷数的变化趋势，正确的是。
（2）利用"卤化硼法"可合成含和
两种元素的功能陶瓷，下图为其晶胞结构示意图，则每个晶胞中含有
原子的个数为，该功能陶瓷的化学式为。
（3）和
中心原子的杂化方式分别为和。第一电离能介于
、
之间的第二周期元素有种。
（4）若与
通过
原子与
原子间的配位键结合形成配合物，则该配合物中提供孤对电子的原子是。
废旧硬质合金刀具中含碳化钨（）、金属钴（
）及少量杂质铁，利用电解法可回收
和
。工艺流程简图如下：
（1）电解时废旧刀具做阳极，不锈钢做阴极，溶液为电解液。阴极主要的电极反应式为。
（2）净化步骤所得滤饼的主要成分是。回收的洗涤液代替水配制电解液，目的是回收利用其中的。
（3）溶液I的主要成分是。洗涤不充分对最终产品纯度并无明显影响，但焙烧时会造成环境污染，原因是。
（4）将还原成
粉的化学反应方程式为。
化学反应原理在科研和生产中有广泛应用
（1）利用"化学蒸气转移法"制备TaS2晶体，发生如下反应 （Ⅰ）反应（Ⅰ）的平衡常数表达式
=，若
=1，向某恒容密闭容器中加入1
和足量
，
的平衡转化率为，
（2）如图所示，反应（Ⅰ）在石英真空管中进行，先在温度为的一端放入未提纯的
粉末和少量
，一段时间后，在温度为
的一端得到了纯净的
晶体，则温度
（填"﹥""﹤"或"="）。上述反应体系中循环使用的物质是。
（3）利用的氧化性可测定钢铁中硫的含量。做法是将钢样中的硫转化为
，然后用一定浓度的
溶液进行滴定，所用指示剂为，滴定反应的离子方程式为，
（4）25℃时，的电离常数
，则该温度下
的水解平衡常数
=
，若向
溶液中加入少量的
，则溶液中
将（填"增大""减小"或"不变"）。
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