某研究小组以甲苯为主要原料，采用以下路线合成医药中间体F和Y。
已知： 
请回答下列问题：
（1）下列说法正确的是 。
| A．F的分子式是C7H7NO2Br |
| B．甲苯的一氯取代物有3种 |
| C．F能发生取代反应和缩聚反应 |
| D．1mol 的D最多可以和5 mol H2发生加成反应 |
（2）D→E的反应类型是 。
（3）B→C的化学方程式是 。在合成F的过程中，B→C步骤不能省略，理由是 。
（4）C→D反应所需的试剂是 。
（5）写出同时符合下列条件的A的同分异构体的结构简式 （写出3个）。
①苯环上只有两种不同化学环境的氢原子 ②分子中含有
（6）以X和乙烯为原料可合成Y，请设计合成路线（无机试剂及溶剂任选）。注：合成路线的书写格式参照如下示例流程图：
欲探究某矿石可能是由FeCO3、SiO2、Al2O3中的一种或几种组成，探究过程如下图所示。（已知：碳酸不能溶解Al(OH)3沉淀）
（1）用滤渣制备粗硅的化学反应方程式为
（2）下列说法正确的是
a．酸性：H2CO3＞H2SiO3 b．结合质子的能力：CO> AlO2－>HCO3－
c．稳定性：H2O＞CH4＞SiH4 d．离子半径：O2－＜Al3+
（3）滤渣和NaOH溶液反应的离子方程式是
通过 现象说明此矿山中不含Al2O3
（4）该矿石和稀HNO3发生氧化还原反应的离子方程式为
（5）工业上依据上述实验原理处理该矿石，将反应池逸出的气体与一定量的O2混合循环通入反应池中，主要两个目的是 ， ；
若处理该矿石2.36×103 kg，得到滤渣1.2×103 kg ，理论上至少需要1 mol L－1 HNO3的体积为 L。
某校学生化学实验小组，为验证Cl2氧化性强于硫和N2，设计了一套实验装置：
（部分夹持装置已略去）
A B C D E
（1）写出A中反应的离子方程式
（2）B中出现黄色浑浊现象，产生此现象的离子方程式
（3）D中干燥管中出现的现象为
产生的NH3过量，则D干燥管发生化学方程式为
（4）有同学认为D中的现象并不能说明Cl2氧化性强于N2，需要在C之前加装洗气装置，请画出
其装置图 （并注明盛装试剂）。
（5）证明非金属性Cl > S，用另一种相关事实说明
苯酚是一种重要的化工原料，以下是以苯酚为原料，生产阿司匹林、香料和高分子化合物的合成线流程图。
（1）上述合成流程中没有涉及的有机反应类型有 （填写字母）。
A.加成反应 B.消去反应 C.氧化反应 D. 还原反应 E.加聚反应 F.缩聚反应
（2）可以用于检验阿司匹林样品中含有水杨酸的试剂为__________（填写字母）。
A．碳酸氢钠溶液 B．氯化铁溶液 C．浓溴水 D．新制氢氧化铜悬浊液
（3）请写出（2种）满足下列条件与阿司匹林互为同分异构体的结构简式：
① 苯环上的一取代物有两种；② 能发生银镜反应； ③ 含有酯基、能与NaHCO3反应
、
（4）请写出（2种）满足下列条件与阿司匹林互为同分异构体的结构简式：
① 属于芳香族化合物，且核磁共振氢谱对应的峰面积比为3:2:2:1 ；
②能发生银镜反应； ③ 含有酯基,不含其它官能团
、
(5)写出下列有机反应方程式：
F + 在NaOH溶液加热下的反应：
水杨酸A→G 的反应：
(6)写出限定由苯和乙醇为有机原料（无机试剂自选）合成酚醛树脂的流程：
合成路线流程图示例如：
| |
已知A、B、C、D、E都是周期表中前四周期的元素，它们的核电荷数A＜B＜C＜D＜E。其中A、B、C是同一周期的非金属元素。化合物DC为离子化合物，D的二价阳离子与C的阴离子具有相同的电子层结构。AC2为非极性分子。B、C的氢化物的沸点比它们同族相邻周期元素氢化物的沸点高。E的原子序数为24，ECl3能与B、C的氢化物形成六配位的配合物，且两种配体的物质的量之比为2∶1，1mol该配合物能与3molAgNO3恰好完全沉淀 。请用对应的相关元素的化学用语规范填空：
(1）A、B、C的第一电离能由小到大的顺序为___________________________。
(2）B的氢化物（B2H4）的分子中心原子采取_______杂化。
(3）写出化合物AC2的电子式________________；一种由B、C组成的化合物与AC2互为等电子体，其化学式为____________________。
(4）B的最高价氧化物对应的水化物的稀溶液与D的单质反应时，B被还原到最低价，该反应的化学
方程式是 （并标出双线桥表示电子转移的方向和数目）。
(5）E3+的核外电子排布式是______________ ，ECl3形成的配合物的化学式为___________ 。
碳化硅(SiC) 、氧化铝(Al2O3) 和氮化硅（Si3N4）是优良的高温结构陶瓷，在工业生产和科技领域有重要用途。宇宙火箭和导弹中，大量用钛代替钢铁。
(1)Al的离子结构示意图为 ；
Al与NaOH溶液反应的离子方程式为
(2)氮化硅抗腐蚀能力很强，但易被氢氟酸腐蚀，氮化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅和一种铵盐，
其反应方程式为
（3）工业上用化学气相沉积法制备氮化硅，其反应如下：
3SiCl4(g) + x N2(g) + 6 H2(g) 
Si3N4(s) + 12 HCl(g) △H＜0
在恒温、恒容时，分别将0.3mol SiCl4(g)、0.2mol N2(g)、0.6mol H2(g)充入2 L密闭容器内，进行上述反应，5 min达到平衡状态，所得HCl(g)为0.3mol/L、 N2为0.05 mol/L
① H2的平均反应速率是
② 反应前与达到平衡时容器内的压强之比=
③ 系数 x =
(4)已知：TiO2(s)＋2Cl2(g)===TiCl4(l)＋O2(g) ΔH1＝＋140 kJ·mol－1
C(s)＋
O2(g)=== CO(g) ΔH2 ＝－110 kJ·mol－1
写出TiO2和焦炭、氯气反应生成TiCl4和CO气体的热化学方程式：
。
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