三氟化氮(NF3)在微电子工业中有重要用途,可由氨气和氟气反应得到,它在潮湿的空气中与水蒸气反应的产物有HF、NO和HNO3。下列说法错误的是
工业上制备纯硅反应的热化学方程式如下:SiCl4(g)+2H2(g) Si(s)+4HCl(g);ΔH=+Q kJ·mol-1(Q>0),某温度、压强下,将一定量反应物通入密闭容器进行以上反应,下列叙述正确的是
常温下,下列各组离子在指定溶液中能大量共存的是
下列有关溶液的说法正确的是
下列实验装置设计与对应结论正确的是
下列反应的离子方程式正确的是