工业上用化学气相沉积法制备氮化硅,其反应如下:3SiCl4(g)+2N2(g)+6H2(g)
Si3N4(s)+12HCl(g) ΔH<0
某温度和压强条件下,分别将0.3 mol SiCl4(g)、0.2 mol N2(g)、0.6 mol H2(g)充入2 L密闭容器内,进行上述反应,5 min达到平衡状态,所得Si3N4(s)的质量是5.60 g。
(1)H2的平均反应速率是 mol·L-1·min-1。
(2)平衡时容器内N2的浓度是 mol·L-1。
(3)SiCl4(g)的转化率是 。
(4)若按n(SiCl4)∶n(N2)∶n(H2)=3∶2∶6的投料配比,向上述容器不断扩大加料,SiCl4(g)的转化率应 (填“增大”“减小”或“不变”)。
(5)在不改变反应条件的情况下,为了提高SiCl4(g)的转化率,可通过改变投料配比的方式来实现。下列四种投料方式,其中可行的是 。
| 选项 |
投料方式 |
| A |
n(SiCl4)∶n(N2)∶n(H2)=1∶1∶2 |
| B |
n(SiCl4)∶n(N2)∶n(H2)=" " 1∶2∶2 |
| C |
n(SiCl4)∶n(N2)∶n(H2)=" " 3∶2∶2 |
| D |
n(SiCl4)∶n(N2)∶n(H2)=" " 2∶1∶3 |
(6)达到平衡后升高温度,其他条件不变,对平衡体系产生的影响是 (填字母序号)。
A.c(HCl)减少
B.正反应速率减慢,逆反应速率加快
C.Si3N4的物质的量减小
D.重新平衡时c(H2)/c(HCl)增大
可逆反应：aA（g）+ bB（g）
cC（g）+ dD（g）；根据图回答：
（1）压强 P1比P2 （填大或小）；
（2）（a +b）比（c +d） （填大或小）；
（3）温度t1℃比t2℃ （填高或低）；
（4）正反应为 反应。
在密闭容器中进行可逆反应： CO(气)＋NO2(气) 
CO2(气)＋NO(气) △H＜0，达到平衡后，只改变其中一个条件，对平衡的影响是：
(1)增大容器的体积，平衡 ，反应混合物的颜色 。
(2)通人CO2气体，平衡 ，反应混合物的颜色 。
(3)加入催化剂，平衡 。
二氧化碳又名碳酸气，具有较高的民用和工业价值，在多种领域有着广泛的应用。目前，二氧化碳在棚菜气肥、蔬菜（肉类）保鲜、生产可降解塑料等领域也展现良好的发展前景。二氧化碳是一种无色无味的气体，无毒、不导电并且没有可燃性。但是金属镁在点燃的条件下可以在二氧化碳气体中燃烧。其中还原产物是碳。
Ⅰ．①氧化产物是
②请写出化学反应方程式，并用双线桥法表示该反应的电子转移总
数
Ⅱ．CO2气体与碱溶液反应时，用量不同其生成的产物不同。
取两份等物质的量浓度等体积的Ca(OH)2的溶液，一份通入过量CO2，生成沉淀的物质的量（n）和通入CO2体积（V）的关系如图所示
写出沉淀变化由a到b的离子方程式：
Ⅲ．另一份先加入少量的KOH固体溶解，再将过量CO2通入KOH和Ca(OH)2的混合溶液中，请绘图表示出生成沉淀的物质的量（n）和通入CO2体积（V）的关系;
并写出与上图中不同曲线处对应的离子反应方程式 ；
。
已知：①单质E可作为半导体材料；②化合物F是不能生成盐的氧化物；③化合物I能溶于水呈酸性，它能够跟氧化
物A起反应。
据此，请填空：
⑴化合物F的化学式为__________，化合物I的化学式为_____________，氧化物A的晶体类型为_____________。
⑵反应①的化学方程式为___________________________________。
⑶氧化物A与烧碱溶液反应的离子方程式为___________________________________。
三氟化氮是一种无色、无味、无毒且不可燃的气体，可在铜的催化作用下由F2和过量NH3反应得到，在半导体加工，太阳能电池和液晶显示器的制造中得到广泛应用。它在潮湿的空气中与水蒸气能发生氧化还原反应，其反应的产物有：HF、NO 和 HNO3，请根据要
求回答下列问题：
⑴写出制备NF3的化学反应方程式： 。反应过程中，氧化剂与还原剂的物质的量之比为 。
⑵写出三氟化氮与水蒸气反应的化学方程式： 。⑶NF3是一种无色、无臭的气体，但一旦NF3在空气中泄漏，还是易于发现。你判断该气体
泄漏时的现象是 。
⑷一旦NF3泄漏，可以用NaOH溶液喷淋的方法减少污染。其产物除H2O外，还有另三种
钠盐： （填化学式）。
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