已知氧化还原反应与四种基本反应类型的关系可用如图表示，下列是有水参加或生成的几种反应：
①CaO+H2O =Ca(OH)2
②2Na+H2O=2NaOH+H2↑
③H2+CuO 
Cu +H2O
④3S+6NaOH 2Na2S +Na2SO3 +3H2O
⑤NaOH+HCl=NaCl+H2O
请回答下列问题：
（1）反应①中水 （填字母）。
| A．是氧化剂 |
| B．是还原剂 |
| C．既是氧化剂又是还原剂 |
| D．既不是氧化剂又不是还原剂 |
（2）反应③被氧化的元素是 （填元素符号）。
（3）上述反应中，属于区域Ⅲ的是 （填序号）。
（4）写出一种符合区域Ⅴ且既有沉淀生成又有水生成的离子方程式： 。
CYP73A1炔抑制剂的合成路线如下：
（1）化合物A核磁共振氢谱有____________种蜂。
（2）化合物C中含氧官能团有_______________、______________（填名称）。
（3）鉴别化合物B和C最适宜的试剂是____________________。
（4）写出A—B的化学方程式_____________________________。
（5）B的同分异构体很多，符合下列条件的异构体有______________种。
①苯的衍生物 ②含有羧基和羟基③分子中无甲基
（6）试以苯酚、氯乙酸钠（ClCH2COONa）、正丁醇为原料(无机试剂任用)，结合题中有关信息，请补充完整的合成路线流程图。
(12分) 氮化硅硬度大、熔点高、不溶于酸（氢氟酸除外），是一种重要的结构陶瓷材料。一种用工业硅（含少量钾、钠、铁、铜的氧化物），已知硅的熔点是1420℃，高温下氧气及水蒸气能明显腐蚀氮化硅。一种合成氮化硅的工艺主要流程如下：
（1）净化N2和H2时，铜屑的作用是： ；硅胶的作用是 。
（2）在氮化炉中3SiO2(s)+2N2(g)=Si3N4(s) △H=－727.5kJ/mol，开始时为什么要严格控制氮气的流速以控制温度： ；体系中要通入适量的氢气是为了 。
（3）X可能是 （选填：“盐酸”、“硝酸”、“硫酸”、“氢氟酸”）。
（4）用硅粉作硅源、叠氮化钠（NaN3）作氮源，直接燃烧生成氮化硅（发生置换反应），该反应的化学方程式为： 。
化合物A是来自石油的一种基本化工原料，用A和水煤气为原料经下列途径合成化合物D（分子式为C3H6O3）。
已知：
请回答下列问题；
⑴、写出有关物质的结构简式：A： ；B： ；C： ；D： 。
⑵、指出反应⑤的反应类型 。
⑶、写出反应③的化学方程式 。
⑷、反应④的目的是 。
合成气经压缩升温后进入10m3甲醇合成塔，在催化剂作用下，进行甲醇合成，主要反应是：2H2(g) + CO(g) 
CH3OH(g) △H =-181.6kJ·mol-1。T4℃下此反应的平衡常数为160。此温度下，在密闭容器中加入CO、H2，反应到某时刻测得各组分的浓度如下：
| 物质 |
H2 |
CO |
CH3OH |
| 浓度/（mol·L－1） |
0.2 |
0.1 |
0.4 |
⑴比较此时正、逆反应速率的大小：v正 v逆（填“>”、“<”或“＝”)。
⑵若加入同样多的CO、H2，在T5℃反应，10 min后达到平衡，此时c(H2)＝0.4 mol·L－1，则该时间内反应速率v(CH3OH) ＝ mol·(L·min)－1。
⑶生产过程中，合成气要进行循环，其目的是 。
化合物A、B、C、D、E分别由H+、Na+、Al3+、Cu2+四种阳离子和CO32-、Br-、SiO32-、SO42-四种阴离子组成。已知①A、B、C三种溶液pH＜7，D、E溶液pH＞7②A、C的阴离子相同，D、E的阳离子相同 ③用石墨电极电解A的溶液，阳极有无色气体产生，阴极有红色物质生成 ④C溶液与D溶液反应能生成一种白色沉淀和一种气体，且此沉淀可溶于B的溶液，此气体通入E的溶液中可产生另一种白色沉淀。
请根据以上事实填空：
⑴写出B、C、E的化学式：B___________、C___________、E____________。
⑵D溶液的pH>7，原因是：（结合离子方程式说明）__________________________________。
⑶写出C溶液与D溶液发生反应的离子方程式：_______________________。
⑷若用石墨电极电解400mL 1.0 mo1·L—1 A的溶液，当阳极有2.24 L气体（标准状况）产生时，溶液的pH＝_______________（设溶液的体积不变）。
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