相关试题
除去下列各物质中含有少量杂质的方法，不合理的是
| 选 项 |
物 质 |
所含杂质 |
除去杂质的办法 |
| A |
N2 |
O2 |
通过足量的灼热铜网 |
| B |
CO2 |
CO |
通过足量的灼热氧化铜 |
| C |
H2 |
水蒸气 |
通过盛有氧化钙固体的干燥管 |
| D |
CO2 |
HCl |
通过盛有足量氢氧化钠溶液的洗气瓶 |
硅是良好的半导体材料，制粗硅反应：SiO2+2C
Si+nCO↑。有关说法正确的是
| A．反应中CO是还原剂 | B．硅是地壳中含量最高的元素 |
| C．该反应属于置换反应 | D．该化学方程式中系数n="1" |
相关实验原理与化学反应方程式的书写都正确的是
| A．用氢氧化钠吸收二氧化硫：2NaOH+SO2→Na2SO3+H2O |
| B．洗去试管壁上附着的铜：Cu+H2SO4→CuSO4+H2↑ |
| C．熟石灰和盐酸反应：CaO+2HCl→CaCl2+H2O |
D．铁丝在氧气中燃烧：4Fe+3O2 2Fe2O3 |
有关物质的用途错误的是
| A．改良酸性土壤常使用氢氧化钙 |
| B．工业上利用氢气还原性冶炼钨、钼等金属 |
| C．农业上常用食盐配制波尔多液 |
| D．农业上常用草木灰（主要含碳酸钾）作钾肥 |
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