已知碳有两种常见的同位素126C、136C;氧有三种常见的同位素168O、178O、188O。(1)由这五种微粒构成的CO的分子有 种。(2)本题中涉及 种核素, 种元素。(3)一个相对分子质量最大的二氧化碳分子中有 个电子, 个中子;0.5 mol这种二氧化碳的质量是 g。
如下图所示中各方框表示有关的一种反应物或生成物(某些物质已经略去),其中常温下A、C和D为无色气体,C能使湿润的红色石蕊试纸变蓝,X分解产生A、B和C三种产物的比值为1:1:1。 (1)写出下列各物质的化学式: X:;B:;F:;G:。 (2)按要求写出下列变化的反应化学方程式: A→D的化学反应方程式:; G→E的离子反应方程式:。
把19.2 g 的Cu放入500mL 2 mol·L-1稀硝酸中,充分反应,Cu完全溶解。求: (1)写出Cu与稀硝酸反应的离子方程式:; (2)铜完全溶解时转移电子数目为(用含NA的式子表示); (3)氧化剂与还原剂的物质的量比为。 (4)反应后溶液中C(H+)为(体积变化忽略不计)
有一无色透明的溶液,要确定是否含有以下离子:K+、Mg2+、Al3+、Fe2+、Ba2+、NO3-、SO42-、Cl-、I-、HCO3-,取该溶液实验如下:
由此判断: (1)溶液中肯定存在的离子是___________________________________________________________,溶液中肯定不存在的离子是__________________________________________________________________。 (2)为进一步确定其他离子,应该补充的实验及对应欲检离子的名称(如为溶液反应,说明使用试剂的名称,不必写详细操作步骤)。_________________________________________________________。
请回答下列问题: (1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下: ①写出由纯制备高纯硅的化学方程式: ____________________________________。 ②整个制备过程必须严格控制无水无氧。遇水剧烈反应生成、HCl和另一种物质,配平后的化学反应方程式为___________________________;还原过程中若混入可能引起的后果是____________________________________。 (2)下列有关硅材料的说法正确的是_________ (填字母)。
E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅 (3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入稀硝酸,振荡。写出实验现象并给予解释。
为了探究三种气态氧化物(SO2、NO2、CO2)的性质,某同学设计了一组实验: 实验一:探究三种气体在水中的溶解性,用三支相同的试管收集满三种气体,倒置在盛满水的烧杯中,一段时间后,观察到的现象如图A、B、C所示。 (1)在相同条件下,三种气体在水中溶解度最大的是________(写化学式)写出A烧杯中发生反应的化学方程式:____。如果在三只烧杯中分别滴几滴紫色石蕊试液,可观察到的现象是_____________________。 实验二:用三只集气瓶收集满二氧化硫、二氧化氮气体,然后将其倒置在水槽中。分别缓慢通入适量O2或Cl2,如图D、E、F所示。一段时间后,D、E装置的集气瓶中充满溶液,F装置的集气瓶中还有气体剩余。 (2)实验二中装置D的集气瓶最终充满溶液(假设瓶内液体不扩散): ①写出装置D中总反应的化学方程式: _______________________________________________。 ②假设该实验条件下,气体摩尔体积为a L·mol-1。则装置D的集气瓶中所得溶液溶质的物质的量浓度为____________________。 (3) 写出实验F通入氧气后,发生反应的化学方程式:____________________________。 (4)溶液充满集气瓶后,在E装置的水槽里滴加硝酸钡溶液,可能观察到的现象为________,用有关的离子方程式解释原因:________________________。