四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法,有关反应的化学方程式为:
SiCl4+2H24HCl+Si
下列说法不合理的是
A.反应制得的硅可用于制造半导体材料 |
B.增大压强有利于加快上述反应的化学反应速率 |
C.四氯化硅可以由粗硅与氯气通过化合反应制得 |
D.混入少量空气对上述反应无影响 |
四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法,有关反应的化学方程式为:
SiCl4+2H24HCl+Si
下列说法不合理的是
A.反应制得的硅可用于制造半导体材料 |
B.增大压强有利于加快上述反应的化学反应速率 |
C.四氯化硅可以由粗硅与氯气通过化合反应制得 |
D.混入少量空气对上述反应无影响 |