三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮

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更新 2022-09-03
科目化学
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难度容易
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三氟化氮（NF₃）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3 NF₃ + 5 H₂O =" 2" NO + HNO₃ + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是（）

A．NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂

B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1

C．若生成0.2 mol HNO₃，则转移0.2 mol电子

D．NF₃在潮湿的空气中泄漏会产生白雾、红棕色气体等现象

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有一稀硫酸和稀硝酸的混合酸，其中H₂SO₄和HNO₃的物质的量浓度分别是4mol/L和2mol/L，取10mL此混合酸，向其中加入过量的铁粉，待反应结束后，可产生标准状况下的气体的体积为(设反应中HNO₃被还原成NO)

A．0.448L

B．0.224L

C．0.896L

D．0.672L

题型：未知
难度：未知

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欲配制100mL 1.0mol/L的Na₂SO₄溶液，下列操作完全正确的是
①将14.2 g Na₂SO₄溶于100mL蒸馏水中
②用托盘天平称量32.20g的 Na₂SO₄•10H₂O晶体，溶于适量蒸馏水中，再稀释至100 mL
③将20 mL5.0 mol/L Na₂SO₄溶液用蒸馏水稀释至100 mL

A．③

B．②③

C．①②

D．①③

题型：未知
难度：未知

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用N_A表示阿伏德罗常数，下列叙述一定正确的是

A．标准状况下，2.24LH₂O含有的质子数为 N_A

B．等物质的量的氮气和氧气，都含有2N_A个原子

C．常温常压下，1.06g Na₂CO₃含有的Na⁺离子数为0.02 N_A

D．物质的量浓度为0.5 mol/L的MgCl₂溶液中，含有Cl^-个数为 N_A

题型：未知
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下列物质的分类正确的一组是

A．单质：水银、石墨、氦气、HD

B．氧化物：金刚砂、Na₂O₂、双氧水、N₂O₄

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D．盐：碱式碳酸铜、小苏打、KI、Ba(OH)₂

题型：未知
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下列说法正确的是

A．若苛性钠放在纸片上称量，会使所配制的苛性钠溶液浓度偏大

B．可以用向下排空气法收集氢气、氨气、一氧化碳等气体

C．电解质溶液导电，肯定发生了化学变化

D．某些取出的化学试剂，未用完的可以放回原试剂瓶，如：K、Na₂CO₃等

题型：未知
难度：未知

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